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Sm2O3/TiO2对亚甲基蓝染料的光催化降解行为研究

郑小刚 , 王姝羡 , 付文娣 , 荣静 , 黄敏 , 付孝锦 , 刘勇 , 由耀辉

采用浸渍法制备Sm2O3掺杂TiO2的负载型光催化剂Sm2O3/TiO2,考察其在紫外可见光区对亚甲基蓝的光降解行为.利用XRD、N2吸附、SEM、TEM、XPS和ICP-OES等手段表征Sm2O3/TiO2样品,考察Sm2 O3掺杂量和亚甲基蓝浓度对亚甲基蓝紫外光降解活性的影响和催化剂Sm2O3/TiO2的催化稳定性.结果表明,Sm2O3/TiO2对亚甲基蓝的紫外光降解活性高于TiO2,这归因子掺杂Sm2O3引起TiO2的晶体缺陷.这种晶体缺陷作为光生电子和空穴的陷阱实现光生电子-空穴对的有效分离,从而提高Sm2O3/TiO2的光催化活性.Sm2O3/TiO2对亚甲基蓝的光降解活性随着Sm2O3掺杂量的增加先增大后减小,随着亚甲基蓝浓度的增大而减小.Sm2 O3掺杂量5.0wt％的Sm2O3/TiO2对亚甲基蓝紫外光降解的7次循环实验未出现明显失活.

关键词: Sm2O3/TiO2 , 亚甲基蓝 , 光催化

交联明胶基絮凝剂的制备及其絮凝性能

岳丽君 , 由耀辉 , 王碧 , 孙绪兵

环境化学 doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2016.07.2015113005

以工业明胶(Gel)为原料,戊二醛为交联剂,制备一种新型交联明胶基絮凝剂(G-Gel),并通过伯胺基含量测定、傅里叶红外光谱、紫外光谱和热重分析等研究戊二醛和Gel的反应机理.结果表明,交联反应已成功进行,而且Gel的伯胺基与戊二醛的醛基反应形成希夫碱结构.以G-Gel对高岭土悬浮液的絮凝率为指标,研究G-Gel用量、絮凝时间、pH值对G-Gel絮凝性能的影响,并用Zeta电位、粒度分析、形貌分析等方法研究絮凝机理.实验表明,G-Gel是一种高效的絮凝剂,当G-Gel添加量为15 mg·L-1,pH值为7,絮凝时间为3 min时,絮凝率达87％,并且适用于酸性、中性与碱性条件.Zeta电位、絮体粒径分布及其形态结构的测定表明,G-Gel的絮凝机理主要以架桥絮凝为主,电荷中和作用较弱.

关键词: 工业明胶 , 交联明胶基絮凝剂 , 戊二醛 , 絮凝性能

金属镍掺杂g-C3N4的制备及其光降解性能

郑小刚 , 杜京城 , 李子黎 , 付孝锦 , 由耀辉 , 刘勇

人工晶体学报

采用浸渍法制备不同掺杂量的负载型光催化剂Ni/g-C3N4,并考察其在可见光照下对亚甲基蓝的光降解性能.利用XRD、FT-IR、SEM、TEM、XPS、N2-sorption和ICP-OES等手段表征Ni/g-C3N4样品.研究表明,Ni/g-C3N4催化剂的光催化活性随着金属镍粒子掺杂量的增加而增大,随着亚甲基蓝浓度的增大而减小,其中金属镍掺杂量4.0wt%的样品4-Ni/g-C3N4表现出优异的光催化活性和光降解稳定性.这是由于4-Ni/g-C3N4样品的光降解过程中产生了超氧自由基、羟基自由基和空穴等活性物质,其中超氧自由基起主导作用.金属Ni0离子在光生电子作用下生成Ni2+,O2分子得到电子生成O2·-自由基.这些活性物质的产生有助于光生电子-空穴对的分离和抑制其复合速率,从而实现可见光下高效催化降解亚甲基蓝.

关键词: Ni/g-C3N4 , 掺杂效应 , 亚甲基蓝 , 光降解性能

用指纹元素散布分析研究古耀州瓷胎的起源

赵维娟 , 李融武 , 郭敏 , 高正耀 , 李国霞 , 谢建忠 , 冯松林 , 范东宇 , 张颖 , 柴之芳 , 禚振西

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2004.03.015

选取耀州窑瓷胎样品25个, 唐三彩的胎3个, 作坊匣钵料样品1个, 耀州博物馆附近粘土矿样品4个.用中子活化分析测量样品中29种元素的含量, 从这29种元素中挑选出8种指纹元素, 将指纹元素的含量进行散布分析.结果表明, 出自不同窑口的古耀州瓷的胎, 有着长期稳定的、集中的原料产地.耀州窑唐三彩的胎料产地和耀州瓷胎的原料产地相同.

关键词: 古耀州瓷胎 , 原料产地 , 中子活化分析 , 指纹元素 , 散布分析

深过冷Cu-20%Pb亚偏晶合金的再辉与形核分析

刘丽琴 , 张忠明 , 徐春杰 , 郭学锋

材料热处理学报

采用熔融玻璃净化与循环过热相结合的方法研究Cu-20%Pb亚偏晶合金的再辉行为,利用经典形核理论与瞬态形核理论计算讨论偏晶合金的两相竞争形核规律.结果表明,在过冷度0～238K范围内,凝固过程出现两次再辉.一次再辉由a(Cu)相的形核和生长引起,二次再辉由偏晶反应引起.过冷亚偏晶Cu-20%Pb合金凝固过程中,相恒先形核,即匀晶转变先于偏晶反应发生.

关键词: 深过冷 , 亚偏晶合金 , 再辉 , 形核

双辉等离子渗铬T8钢碳迁移现象的分析

池成忠 , 高原 , 贺志勇 , 徐重

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2003.04.017

用双辉等离子渗铬技术,进行了880～900℃温度下的T8钢表面渗铬合金化研究;测量了渗铬层中Fe、Cr和C等元素的浓度分布,分析了渗铬合金化层形成过程中碳迁移行为.结果表明,对T8钢进行双辉等离子渗铬处理时,奥氏体中碳化学位下降引起的从基体向渗层的碳迁移是必然的,但通过控制工艺参数,由阴极溅射引起的表面脱碳是可以减轻的.

关键词: 表面合金化 , T8钢 , 渗铬 , 碳迁移 , 脱碳

碳素工具钢表面低温双辉等离子渗铬硬化的研究

池成忠 , 高原 , 贺志勇 , 徐重

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2003.11.010

用双辉等离子渗铬技术,进行了880～900℃温度下的碳素工具钢表面渗铬硬化研究,分析了渗铬硬化层的显微组织和相结构,测量了渗铬硬化层的厚度、硬度及铬浓度分布,并对渗铬硬化层进行了划痕检验.结果表明,在880～900℃温度下,对碳素工具钢进行双辉等离子渗铬也可得到良好的渗铬硬化层;渗铬硬化层由沉积层、碳化物层和固溶体层构成.

关键词: 表面合金化 , 碳素工具钢 , 渗铬 , 硬化层

双辉低温(560℃)等离子渗铬的工艺研究

郑英 , 高原

材料导报

采用离子氮化+双辉等离子渗铬的复合工艺(首先对T10钢进行550℃x8h离子氮化,再进行560℃双辉等离子渗铬,渗铬完成后试样随炉冷却),研究了源极电压、阴极电压、极间距、工作气压、预氮化保温时间、渗铬保温时间等工艺参数对双辉等离子渗铬的影响,得出了本工艺条件下的最佳工艺参数.结果表明,在8h预氮化极间距50～60mm,阴极电压-275～325V、源极电压-750～-850V、渗铬气压25～35Pa的工艺条件下,渗层厚度约30μm,沉积层铬浓度达55%以上,扩散层铬浓度呈梯度分布;渗层由沉积层+扩散层组成,沉积层组织致密,与基体结合紧密,扩散层晶粒细小,碳化物弥散,不改变试样原始的基体组织;经X射线衍射分析,表层物相由Fe-Cr、CrN、Cr7C3、Cr23C6等组成,表面硬度达1000～1250HV,且呈梯度分布.

关键词: 碳素工具钢 , 低温 , 双辉等离子渗铬

45钢低温双辉等离子渗铬硬化的研究

刘让贤 , 郑英 , 高原 , 刘坚

材料保护

常规双辉等离子渗铬温度较高(800℃以上),能耗较大.为此,采用双辉等离子渗金属技术,在560℃下对45钢进行了表面渗铬硬化,制备出了性能良好的表面合金改性层.采用X射线衍射仪及其附带的能谱仪测定了渗层物相及成分,采用金相显微镜考察了渗层组织形貌,并采用显微硬度计检测了渗层硬度.结果表明:渗层组织由沉积层及扩散层组成;渗层表层为2～3 μm的沉积层,含铬量达到48%以上,沉积层致密并与扩散层结合紧密;内有20～25 μm的扩散层,其合铬量呈梯度分布;表面物相由Fe-Cr、Cr7C3、Cr23C6等组成;渗层表面显微硬度达600～700 HV,硬度向内呈梯度分布.

关键词: 双辉等离子渗铬 , 45钢 , 物相 , 成分 , 显微形貌 , 显微硬度

实时测量液晶显示器辉度及响应时间的研究

潘鼎翔

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.002

提出将不同的仪器组合达到实时量测液晶显示器辉度及响应时间特性,即利用搭配视效响应滤光片的光探测器检测液晶显示器响应时间,光辉度计量测液晶显示器辉度及色度,此搭配滤光片的探测器有直径10 mm的大感光面积.设计了一种由光纤及准直透镜至光探测器的光学系统,此系统具有较小收光探头体积、调整光点大小及容易对位的优势.采用不同光纤及准直透镜设计收光光点大小,对于检测辉度较小液晶显示器,可选用较大的准直透镜.对于较高空间分辨率或较小待测物,可利用搭配不同光纤及准直透镜达到小的收光光点.根据不同规格要求可设计光纤及光纤两边的准直透镜.分析了检测液晶显示器不同视角及对于此系统的校正方法.该系统将可实现液晶显示器实时多点检测,达到快速、高分辨率的优势.

关键词: 辉度 , 时间 , 准直透镜 , 光纤

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