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激光处理对硅钢片磁畴和磁滞损耗的影响

周昌炽 , 唐西南 , 张双喜 , , 杨保和

材料研究学报

本文研究了3wt-%Si-Fe 铁磁材料在激光作用下磁畴结构变化的规律。实验结果表明,经激光处理的硅钢片磁损耗至少降低10%,最高的达到降低磁损20%。

关键词: 激光划线处理 , domain , hysteresis

高效液相色谱法测定非离子造影剂欧帕克

朱秋毓 , 顾勇 , 丁峰 , 林善锬

色谱 doi:10.3321/j.issn:1000-8713.2004.01.010

建立了一种快速、灵敏的细径柱高效液相色谱测定非离子造影剂欧帕克的方法.用高氯酸去除血浆蛋白,流动相采用简单的7%(体积分数)甲醇水溶液体系.方法的线性范围为0.5~500 mg/L,相关系数大于0.999 8.欧帕克的最低检测量为154 pg,保留时间为(3.46 ± 0.02) min,总分析时间少于5 min.日内、日间相对标准偏差(RSD)分别小于4.3%和11.4%.方法的平均回收率大于91.51%.

关键词: 高效液相色谱法 , 细径柱 , 非离子造影剂 , 帕克

渚文化玉器的稀土元素特征及其考古学意义

程军 , 杨学明 , 杨晓勇 , 王昌燧 , 王巨宽

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2000.04.001

本文利用ICP-MS对新石器时代渚文化瑶山遗址出土的古玉器进行了稀土元素分析,并与产于新疆和阗玉石矿的软玉进行了对比.结果表明,瑶山古玉器的稀土元素配分型式、特征比值均明显不同于和阗玉,说明渚文化玉器的玉石应选自当地,这与李约瑟[1]教授认为中国古玉器都源于新疆和阗的论点不同.

关键词: 渚玉器 , ICP-MS , 稀土元素(REE) , 产地分析

口方法在钕铁硼品质分析中的应用

戎利军 , 李培忠 , 陈大力 , 李红 , 贾海军

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2009.05.016

介绍了口方法在钕铁硼生产品质分析中的应用方法,并应用口方法对钕铁硼产品厚度偏差问题提出了新的解决思路和解决方案.

关键词: 口方法 , 钕铁硼 , 厚度偏差 , 品质分析

玲珑金矿金矿成矿地质背景特征研究

戴立新 , 宿晓静 , 马德云 , 尹波

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2007.11.002

通过研究前人关于玲珑金矿的大量科研文献,从地层和岩浆岩的成生时代、控矿构造特征,系统地分析了玲珑金矿内金矿产出的地质背景,指出了玲珑金矿内的找矿方向,为东山矿床深部探、找矿方案设计提供了基础依据.

关键词: 玲珑金矿 , 成矿地质背景特征 , 成矿靶区预测

"口方法"在吸波涂料中的应用

高焕方

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.04.025

应用"口方法"的优化设计思想,针对吸波涂料柔韧性差、附着力低的不足及其特点.通过系统设计及参数设计详细地介绍了"口方法"在吸波涂料中的应用,通过大量实验研制了一种柔韧性好、附着力高的吸波涂料.

关键词: "口方法" , 吸波涂料 , 优化设计

芬顿试剂对菁胶的氧化降解

薛蔓 , 张磊 , 崔元臣

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.10.023

考察了芬顿试剂对菁胶的氧化降解行为. 系统研究了H_2O_2和Fe~(2+)用量、温度和降解时间对菁胶粘度的影响. 结果表明,H_2O_2和Fe~(2+)合适的体积比为2:1. 在较低的温度(25 ℃)和较短的时间(20 min)内芬顿试剂就能使菁胶粘度下降90%以上. 另外,pH值的变化对其降解性能影响不大,显示了较好的降解效果.

关键词: 芬顿试剂 , 菁胶 , 氧化降解 , 粘度

季铵型阳离子菁胶的制备及絮凝作用

崔元臣 , 王新海 , 李德亮 , 李明玉 , 周大鹏

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2004.07.015

以水、乙醇为分散介质,用季铵型阳离子试剂(CHPAC)修饰天然聚多糖大分子菁胶,得到了高取代度的季铵型阳离子菁胶.研究了反应条件对菁胶中伯羟基(PHG)取代度的影响,初步探讨了季铵型阳离子菁胶在水处理中的絮凝特性.结果表明,在n(菁胶中伯羟基):n(阳离子试剂)=1:1、反应温度为50℃、pH值为9~10、V(乙醇):V(水)=1:10、反应时间为6 h条件下,取代度可达0.68;所得季铵型阳离子菁胶与聚合硫酸铁复配处理城市生活废水CODcr去除率达90%,与聚合氯化铁复配处理黄河水时可使吸光度降至0.1以下.

关键词: 阳离子菁胶 , 化学改性 , 混凝

磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺率的影响

刘晓伟 , 郭会斌 , 李梁梁 , 郭总杰 , 郝昭慧

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0548

纯铝薄膜被广泛用作TFT LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的率有较大影响.本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对不同温度下沉积的纯铝薄膜的小丘生长情况进行了研究.实验结果表明:纯铝成膜温度提高,薄膜的晶粒尺寸增大,退火后产生小丘的密度和尺寸明显降低,温度应力曲线中屈服点温度也相应提高.量产中适当提高成膜温度,可以有效抑制小丘的发生,提高TFT阵列工艺的量产率.

关键词: 薄膜晶体管阵列工艺 , 磁控溅射 , 纯铝薄膜 , 小丘 , 量产

高分子菁胶化学结构式修饰方法综述

陈虹宇 , 唐洪波 , 王锦霞 , 谢宏伟

高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.03.033

菁胶是从菁种子胚乳中提取的一种天然多糖类高分子有机物.天然的化学结构反映出的理化性质限制了其应用和推广.化学结构式的修饰改进是扩大其应用的有效手段.修饰改进后的菁胶无毒、无污染,在石油开采、煤开采、纺织、印刷、造纸和食品等领域得到了广泛应用.文中对羧甲基法、羟乙基法、羟丙基法、交联法、羟烷基-羧甲基法、羧甲基-羟烷基法、阳离子法、酶解法、氧化法和两性法等菁胶化学结构式的主要修饰改进方法进行了详述.总结了修饰改进技术注意事项,并对前景进行了展望.

关键词: 菁胶 , 羧甲基法 , 羟基法 , 阳离子法 , 酶解法 , 改性

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