彭玲玲
,
王育华
材料导报
采用水热法在低温下合成了球形的立方相ZnSe纳米晶,研究了水热过程中ZnSe纳米晶的结晶动力学过程.通过在水热反应过程中添加不同量的C17H33COOH,得到了形貌规则、不同粒径的ZnSe纳米晶.水热条件下C17H33COOH能控制纳米晶形貌和分散性的机理为:C17H33COOH分子内部的羧基提升了ZnSe纳米晶的表面完整性,并保护了ZnSe结构内部的非极性烷基,使得ZnSe纳米晶很容易分散在非极性溶剂中,提高了溶液中ZnSe纳米晶的分散性、光谱测试结果表明ZnSe纳米晶的发射光谱随着粒径减小发生蓝移,归因于量子限域效应的增强.
关键词:
纳米晶
,
稳定剂
,
分散性
姚颖悟
,
邱立
,
王育华
,
唐宝华
,
段中余
,
王超
电镀与涂饰
概述了钛基锡锑氧化物涂层电极制备方法的研究进展,主要包括热分解法、溶胶-凝胶法和电沉积法,并评述了各种涂层制备方法的优势与不足.探讨了掺杂元素、颗粒以及添加中间层对钛电极改性的影响.
关键词:
钛基电极
,
锡锑氧化物涂层
,
制备
,
改性
张稚雅
,
王育华
功能材料
以CaSiO3-B2O3系化合物为研究对象、Mn作为发光中心,探索了其作为高亮度发光材料的可能性.用高温固相法于1150℃、3h、N2气氛下合成了CaSiO3:0.066Mn,0.008Pb-B2O3系列单相粉末样品并研究了其发光特性.结果表明,当B/(B+Si)质量比≤0.3时样品为β-CaSiO3单相,随着B2O3含量的变化,没有观察到X射线住置的明显变化,这说明B的固容量有限.当B/(B+Si)质量比>0.3时发现有杂质相.在254nm激发下,观察到最大强度位于617nm的红色发射峰且B/(B+Si)质量比=0.3时达到最大.147nm真空紫外激发下的发射峰和紫外激发下的一致,发射强度也在B/(B+Si)质量比=0.3时达到最大;617nm监控下的VUV激发光谱由峰值位于185和253nm的两个激发带构成,分别归属于基质吸收和激活离子激发.
关键词:
β-CaSiO3
,
UV/VUV
,
荧光体
李艳廷
,
孙秀果
,
王育华
,
司华艳
,
杨民力
,
彭政
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.03.008
采用并流中和法制备了La掺杂的SiO2包覆TiO2纳米粒子,利用X射线衍射(XRD),傅立叶交换红外光谱(FT-IR),透射电镜(TEM)及紫外可见光吸收(UV-Vis)光谱对掺杂改性前后样品进行表征.以紫外光照降解甲基橙为测试体系,研究了La掺杂量及煅烧温度对SiO2/TiO2光催化性能的影响,并对其作用机制做了初步的探讨.FT-IR表明在包覆层和纳米TiO2颗粒之间的界面上形成了Ti-O-Si和Ti-O-La键,从而抑制了金红石相的形成,提高了热稳定性,和XRD分析结果一致,掺杂了La的SiO2/TiO2在800℃时金红石相的含量仍然比较低,和120℃时的含量相当;TEM照片显示改性后的TiO2团聚减小,粒度均匀.UV-Vis光谱分析显示La掺杂SiO2/TiO2的光响应范围拓宽至可见光区,其中光吸收红移最大的样品为3.0％La掺杂量的SiO2/TiO2,带隙能(Eg)由原来的2.98 eV降为为2.41 eV.光催化性能实验结果显示当La的摩尔掺杂量为3 0％时,其光催化活性最好,光照20 min,与未掺杂改性的TiO2相比甲基橙的光降解率提高了55 1％;另外,未掺杂TiO2煅烧温度对光催化影响显著,当温度由120 ℃增加为800℃时,光照25 min的降解率就由69％降为10.7％,而掺La的SiO2/TiO2煅烧温度对其光催化性能影响不大.
关键词:
TiO2
,
La-SiO2/TiO2
,
光催化降解
,
稀土
王得印
,
王育华
稀有金属材料与工程
采用硝酸盐热分解法合成了CaLa1-xAl3O7:xEu3+(0≤x≤1)粉末样品,研究了其在紫外和真空紫外激发下的发光特性及Eu3+掺杂量对CaLa1-xAl3O7:xEu3+发光强度的影响.XRD分析结果表明,当0≤x≤1时体系都能形成很好的单相.在254 nm紫外(UV)激发下,其发射光谱由位于550 nm～710 nm几条锐线发射峰组成,以616 nm处发射为主,当x=0.2时发射强度最高.在147 nm真空紫外(VUV)激发下,CaLa1-xAl3O7:xEu3+的发射光谱峰形与254 nm(UV)激发下一致,当x=0.2时发射强度最高,但是强度较254 nm(UV)激发下弱,表明UV 和VUV 激发下荧光体的发光机理不同.
关键词:
CaLaAl3O7:Eu
,
黄长石结构
,
UV/VUV
张颖杰
,
曹宝成
,
王育华
,
李娜
,
张旭
材料导报
采用射频磁控溅射法在普通MBT直丝弓金属托槽表面制备了锐钛矿相掺氮TiO2-xNx薄膜,通过MTT比色法、细胞形态学观察、扫描电镜及荧光染色法评价薄膜托槽的细胞学性能.结果表明,掺氮TiO2-xNx薄膜托槽的细胞毒性为0级,与对照组相比,薄膜托槽组细胞的相对增殖率差异无统计学意义(P＞0.05)；扫描电镜图像显示细胞在薄膜托槽表面贴壁生长良好；荧光显微镜观察显示粘附在材料表面的细胞其细胞核呈亮黄绿色荧光,细胞质呈绿色荧光,细胞生长良好.由此证明掺氮TiO2-xNx薄膜托槽具有良好的细胞相容性.
关键词:
掺氮TiO2-xNx薄膜
,
MBT直丝弓金属托槽
,
细胞相容性
