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介绍了利用磁控溅射和一种液氮冷却装置,制备非晶态WO3薄膜、非晶态LiNbO3薄膜和纳米微晶态NiOx薄膜的有效方法.进而,使用这种液氮冷却装置,采用全程基片冷却方法,制备了单基片无机全固态智能窗--G│ITO│NiOx│LiNbO3│WO3│ITO器件.实验结果表明,在400～800nm的可见光范围内,该器件经过1000次循环后,它的漂白态透射率为63.0%,而着色态透射率为10.6%,这一初步工作表明,基片冷却方法应该是制备有优异性能的无机全固态电致变色智能窗的有效方法.

关键词: 磁控溅射 , 无机全固态 , 电致变色 , 智能窗

基于磁控溅射制备纳米微晶NiOx薄膜的方法

王怀义 , 刁训刚 , 王武育 , 郝维昌 , 王聪 , 王天民

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2009.04.017

使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiOx电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiOx薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiOx薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiOx薄膜的O/Ni比率.

关键词: 无机非金属材料 , 磁控溅射 , 纳米微晶态 , 电致变色 , NiOx薄膜

氟化镁单晶体与多晶体成膜后薄膜耐磨性分析

王武育 , 孙平 , 代桂君

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2001.01.020

分析了氟化镁单晶体与多晶体成膜过程的行为，得出了二者不同的聚集方式是造成薄膜耐磨性差异的原因这一结论。给出了改善单晶氟化镁耐磨性的最佳退火条件：350℃退火 2 h。

关键词: 氟化镁 , 薄膜 , 耐磨性

TiO2薄膜的光电性能及应用

王武育 , 王溪晶 , 杨太礼

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2008.06.021

TiO2是高折射率(n=2.7)、大介电常数(ε=114)和半导体微电子结构特点.它的薄膜(d<μm时)是具有光学宽透明波限的优异光电子基质材料.在概述TiO2薄膜制备工艺过程及其对TiO2镀膜材料技术要求的基础上,有针对性地分析了薄膜的光电作用机制,重点介绍TiO2薄膜的光电特性及其在民用和高技术领域的具体应用情况,如光反射、光增透、光吸收、太阳能电池、太阳能集热、半导体介电性能等.

关键词: TiO2薄膜 , 光电应用

忠武管道阴极保护断电电位测量结果分析

罗鹏 , 金鑫 , 徐承伟 , 薛致远 , 高强 , 张永盛

腐蚀与防护

采用GPS卫星同步断电法对忠武管道进行了断电电位测量,对结果进行了分析,评价了忠武管道阴极保护系统的有效性,并提出了改进建议.结果表明,三层PE管道相比于环氧粉末涂层管道更容易出现过保护现象,而且还容易受到干扰;电位是反应管道所处状态的主要指标,阴极保护系统的通电电位呈规律分布,但断电电位影响因素复杂,无明显规律.

关键词: 阴极保护 , 通电电位 , 断电电位