卢红亮
,
徐敏
,
张剑云
,
陈玮
,
任杰
,
张卫
,
王季陶
功能材料
原子层淀积(ALD)技术作为一种先进的薄膜制备方法近年来越来越得到重视,它能精确地控制薄膜的厚度和组分,实现原子层级的生长,生长的薄膜具有很好的均匀性和保形性,因而在微电子和光电子等领域有广泛的应用前景.本文综述了ALD技术的基本原理,及其在金属氧化物薄膜制备上的研究进展.
关键词:
原子层淀积(ALD)
,
金属氧化物薄膜
,
高k材料
丁士进
,
王鹏飞
,
张剑云
,
张卫
,
王季陶
,
张冶文
,
夏钟福
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.02.008
以Teflon AF 1600为原料,用旋涂法制备了非晶含氟聚合物(AF)薄膜通过扫描电镜(SEM)、傅立叶转换红外(FTIR)光谱和X射线光电子(XPS)光谱等手段对热退火前后的薄膜进行了表征.所得薄膜具有无针孔,较光滑和平整的表面,300℃退火后薄膜表面的均匀性进一步改善.AF薄膜在300℃以下具有良好的热稳定性,在400℃退火后CF3吸收峰强度稍有降低.在400 ℃退火后,其所含的CF3键合构型显著降低,CF2、CF等其它构型没有明显的变化,由于CF3基剖的分解有少量无定型碳生成
关键词:
旋涂
,
AF薄膜
,
热稳定性
丁士进
,
张卫
,
王鹏飞
,
张剑云
,
刘志杰
,
王季陶
功能材料
综述了近十年来低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究状况,详细介绍了该薄膜在化学键结构、热性质、湿稳定性以及介电常数四个方面的特性,同时也简单介绍了薄膜的台阶覆盖度、填隙能力和漏电流特性,指出含氟氧化硅薄膜是一种可用于集成电路中的极富应用前景的低介电常数材料.
关键词:
含氟氧化硅
,
薄膜
,
低介电常数
,
化学气相淀积
张卫
,
万永中
,
刘志杰
,
王季陶
金属学报
以CH4／H2体系为例，研究了气相生长金刚石和石墨的驱动力随温度和CH4的摩尔分数的变化情况若不考虑超平衡氢原子的作用，则石墨的生长驱动力总是大于金刚石的生长驱动力；如考虑超平衡氢原子的作用，则在一定的温度和CH4摩尔分数条件下，生长金刚石的驱动力将大于零且生长石墨的驱动力小于零。结果表明，此时气相中碳的化学势高于金刚石的化学势而低于石墨的化学势因此，气相中将只生长金刚石而不生长石墨，甚至出现金刚石生长的同时石墨被腐蚀的现象。
关键词:
金刚石
,
vapor phase growth
,
chemical potential
丁士进
,
张卫
,
徐宝庆
,
王季陶
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2000.03.005
用BPO4和稀土氧化物为原料,首次合成了铈、铽、钆共激活的硼磷酸钇绿色荧光粉,研究了基质中Ce3+、Tb3+、Gd3+的发光以及它们之间的相互作用.该基质中存在Ce3+→Tb3+、Gd3+→Tb3+的能量传递,以及Ce3+和Gd3+之间的竞争吸收和独自发射.在铈、铽共激活的硼磷酸钇体系中掺入钆后,Ce3+的发射以及Tb3+的5D4→7FJ和5D3→7FJ的发射均增强,但总的效果是Gd3+阻碍了Ce3+→Tb3+的能量传递.基质中钇全部被钆代替后,荧光粉的发光亮度增加,光纯度也较好,发光色坐标X值稍变小.
关键词:
硼磷酸钇
,
发射光谱
,
激发光谱
,
能量传递
丁士进
,
张卫
,
徐宝庆
,
王季陶
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.01.005
以BPO4和稀土氧化物为原料制备了铈、铽、钆共掺杂的硼磷酸镧绿色荧光粉，研究了基质中Gd3＋、Ce3＋、Tb3＋的发光特性及它们之间的相互作用。在该基质中存在Ce3＋→Gd3＋、Gd3＋→Tb3＋、Ce3＋→Tb3＋的能量传递；当钆加入到铈、铽共掺杂的硼磷酸镧基质中会导致铈离子的发射减弱，铽离子5D4→7FJ的发射显著增强，而5D3→7FJ的发射没有明显变化，故有利于提高荧光粉的发光强度和绿色发射纯度。用硼磷酸钆作基质比用硼磷酸镧更能提高荧光粉的发光强度、发光纯度以及发光色坐标x的值，所以La(BO3,PO4):Ce,Tb,Gd和Gd(BO3,PO4):Ce,Tb均是理想的绿色发射材料。
关键词:
La(BO3,PO4):Ce,Tb,Gd
,
磷光体
,
激发光谱
,
发射光谱
,
能量传递
