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TiN/AlN纳米多层膜的制备及耐蚀性能

, 陈淑花 , 周青春 , 吴新杰

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.09.015

采用多弧离子镀技术制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过多层膜在酸中的浸泡试验及极化曲线测定,对比研究了TiN/AlN纳米多层膜和TiN薄膜的耐蚀性能.结果表明,由于TiN/AlN纳米多层膜中铝的钝化作用及薄膜的特殊层结构,TiN/AlN纳米多层膜比TiN薄膜具有更优良的耐腐蚀性能.

关键词: 多弧离子镀 , TiN/AlN薄膜 , 耐蚀性

铜合金表面等离子喷涂ZrO2-Y2 O3和A12 O3-TiO2涂层的抗高温氧化性能

柯德庆 ,

表面技术

目的:对比研究ZrO2-Y2 O3和A12 O3-TiO2涂层的抗高温氧化性能。方法采用等离子喷涂工艺,以NiCrAl为粘接层,在铜合金基体表面分别制备ZrO2-Y2 O3和A12 O3-TiO2涂层,测试涂层的显微组织、元素种类及含量、显微硬度,并在相同条件下测试涂层的抗高温氧化性能。结果 ZrO2-Y2 O3和A12 O3-TiO2涂层都具有明显的层状结构,涂层结合紧密,内部孔洞细小,显微硬度分别为423HV 和628HV。这两种涂层都具有一定的抗高温氧化性能,NiCrAl粘结层是整个涂层最薄弱的环节。结论等离子喷涂ZrO2-Y2 O3涂层的抗高温氧化性能优于A12 O3-TiO2涂层。

关键词: 等离子喷涂 , 铜合金 , 氧化锆陶瓷 , 氧化铝陶瓷 , 抗高温氧化性能

电容器用TiCN/Al复合铝箔的制备及其耐蚀性研究

, 宣圣柱 , 谭密 , 周青春

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00975

基于多弧离子镀技术制备了一种新的高容量电容器用TiCN/Al复合铝箔, 研究了C2H2和N2流量比及沉积后冷却方式对TiCN/Al复合铝箔比电容的影响. 通过极化曲线的测定, 对比研究了TiCN/Al复合铝箔和传统工艺刻蚀铝箔的耐蚀性能. 研究结果表明, 多弧离子镀技术制备的TiCN/Al复合铝箔的比电容高达1600uF/cm2, 比传统工艺刻蚀的铝箔提高约2倍. TiCN/Al复合铝箔在电容器用电解质溶液中存在较宽范围的稳定钝化区, 其耐蚀性能明显高于传统工艺刻蚀铝箔.

关键词: 多弧离子镀 , capacitor , aluminum foil , corrosion resistance

PCVD法制备Fe-6.5%Si高硅钢片的工艺研究

周磊 , , 徐超 , 彭骏松 , 张改璐

表面技术

为制备Fe-6.5%Si高硅钢片,先利用PCVD技术在0.2 mm厚的纯铁片表面沉积硅,再进行高温扩散.通过正交实验分析了沉积硅的工艺参数对表层硅含量的影响,并研究了扩散参数对截面硅含量分布的影响.结果表明:以10% Sill4+90% Ar作为渗源气,在500℃下沉积20 min,所得样品的表层硅含量高达40.5%;然后在工业纯氢气的保护下,于1050℃保温60 min,可获得满足要求的Fe-6.5%Si高硅钢片.

关键词: PCVD , 6.5%Si硅钢片 , 渗硅 , 扩散处理

混合稀土金属对9Cr2Mo钢组织和性能的影响

周青春 , , 吴新杰 , 陈大凯

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2007.06.015

制备了稀土元素含量分别为0.1%和0%的9Cr2Mo冷轧辊钢,进行了金相夹杂物形貌分析,并进行抗拉强度和抗回火性能检测,在MM-200型环/块磨损机上进行了环/块磨损试验,根据磨损试样磨损表面形貌进行了磨损机理分析.讨论了稀土元素对9Cr2Mo钢奥氏体晶粒长大过程的影响.结果表明,9Cr2Mo冷轧辊钢中含有0.1%的稀土元素时,其抗拉强度和抗回火性能及耐磨性明显高于不加稀土元素;其组织中Mn的S、O化合物性能和形态发生改变,由质软的长条状转变为较硬的粒状;且显著细化奥氏体晶粒.

关键词: 稀土元素 , 9Cr2Mo , 冷轧辊 , 耐磨性

热喷涂Zn-15%Al合金的耐蚀性研究

, 张恒 , 黄宁 , 高松超 , 徐峰

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2002.12.004

研究了钢铁表面热喷涂锌、铝及锌铝合金涂层在长江水和自来水中的耐蚀性能,同时还对铝的点蚀电位和锌、铝及锌铝合金在长江水和自来水中的极化曲线进行了测定.结果表明:不论是在长江水还是自来水条件下,喷Al涂层极易产生点蚀;喷Zn的腐蚀率较高,不经济;而喷Zn-15%Al合金涂层电极电位最低且腐蚀率低,作为牺牲阳极来保护钢铁材料比Zn和Al有更大的优势.

关键词: 锌铝合金 , 耐蚀性 , 热喷涂

负偏压对磁控溅射镀镍薄膜组织结构的影响

洪波 , , 张扬 , 张恒 , 陆旭锋

电镀与涂饰

采用磁控溅射技术在钼圆片基体表面制备了镍薄膜,并用扫描电镜、平整度仪和X射线衍射分析仪对其进行了表征.研究了不同负偏压对薄膜附着力、微观结构、平整性、晶粒取向以及大小的影响.结果表明,随负偏压增大,薄膜与基体结合力明显增强;适当的负偏压能改善薄膜表面致密性和平整性,在450 V时达到最优.但当负偏压进一步升高到600 V时,镍膜的表面起伏反而变大,平整性有所下降.负偏压对镍膜晶面生长的择优取向影响并不明显,而晶粒尺寸随负偏压增加呈增大的趋势.

关键词: , , 磁控溅射 , 负偏压 , 附着力 , 表面形貌 , 晶粒尺寸

钼合金磁控溅射镀镍薄膜工艺及后续热处理

洪波 , , 张恒 , 张扬

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.09.005

目的:优化钼表面直流磁控溅射镀镍薄膜的工艺,提出后续热处理方法。方法设计正交实验,探究溅射功率、溅射气压、负偏压和沉积时间对镍薄膜沉积速率和附着力的影响,从而优化工艺参数。利用扫描电镜和平整度仪对最佳工艺参数下制备的薄膜的组织结构进行表征,并研究后续热处理对薄膜附着力的影响。结果工艺参数对镀镍薄膜沉积速率影响的主次顺序为:功率>溅射气压>负偏压;对薄膜附着力的影响主次顺序为:负偏压>沉积时间>功率>溅射气压。随溅射功率增大,沉积速率增大,薄膜附着力先增后减;随溅射气压增大,沉积速率和薄膜附着力均先增后减。负偏压增大对沉积速率影响较小,但有利于提高薄膜附着力。随沉积时间延长,薄膜附着力降低。在氢气气氛下进行850℃×1 h的后续热处理,能够促进扩散层的形成,明显提高镍薄膜的附着力。结论最佳镀镍工艺参数为:溅射功率1.8 kW,溅射气压0.3 Pa,负偏压450 V,沉积时间10 min。在该条件下制备的镍薄膜厚度达到1.15μm左右,与基体结合紧密,表面平整、连续、致密。后续增加热处理工序是提高镍薄膜附着力的有效方法。

关键词: 磁控溅射 , 镍薄膜 , 沉积速率 , 附着力 , 热处理

Cr3C2对WCoB-TiC金属陶瓷组织和性能的影响

柯德庆 , , 张恒 , 陆旭峰 , 洪波 , 徐源源

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.18.018

以WC、TiB2和Co粉末为原材料,采用原位反应液相烧结工艺,在1400℃真空烧结炉中制备了WCoB-TiC复相金属陶瓷.利用FE-SEM、EDS和XRD等技术,研究了不同含量晶粒长大抑制剂Cr3C2对WCoB-TiC金属陶瓷组织和性能的影响.结果表明,添加Cr3C2能有效抑制WCoB-TiC金属陶瓷晶粒异常长大,使得材料获得更均匀细小的微观组织,并且提高硬度和耐磨性能.随着抑制剂Cr3C2含量的增加,金属陶瓷的晶粒更细小均匀(晶粒尺寸可达1.0μm),硬度随之升高到91.0HRA,并且耐磨性能得到明显改善,磨损损失质量远小于未添加Cr3C2的试样.

关键词: WCoB-TiC金属陶瓷 , 原位反应液相烧结 , 晶粒长大抑制剂 , Cr3C2

多弧离子镀制备TiCN/Al复合铝箔及温度敏感性

, 谭密 , 周青春 , 宣圣柱 , 王文俊

材料科学与工艺

为提高电容器用铝箔的比电容并降低传统刻蚀铝箔生产过程中的环境污染,采用多弧离子镀技术制备了一种新的电容器,用TiCN/Al复合铝箔电极材料,研究了C2H2和H2流量比及沉积后冷却方式对TiCN/AI复合铝箔比电容的影响.通过扫描电镜和x射线衍射分析了不同温度下铝箔表面的微观结构和物相变化规律,探讨了TiCN/Al复合铝箔的比电容对温度的敏感性.研究结果表明:多弧离子镀技术制备的TiCN/Al复合铝箔的比电容高达1600μF/cm2,比传统的刻蚀工艺铝箔约提高2倍;TiCN/Al复合铝箔具有较强的温度敏感性,随温度的升高,铝箔表面TiCN涂层颗粒有逐渐长大的趋势,晶体结构也从非晶态向晶态转变,温度高于200℃时,比电容下降较快.

关键词: 多弧离子镀 , 电容器 , 铝箔 , 比电容

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