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纳米(1-x)SnO2·xSb2O3复合云母钛导电珠光颜料的制备

, 谭俊茹 , 付贤松 , 侯文祥 , 陈秀增

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2004.04.010

以尿素为沉淀剂,利用均相沉淀法制备出纳米(1-x)SnO2·xSb2O3复合云母钛导电珠光颜料,研究了不同反应基质、基质的加料方式,在基质表面包覆掺锑二氧化锡(简称ATO)的量以及ATO组成中Sn4+/Sb3+的最佳摩尔比等工艺参数与颜料导电性及珠光效应的关系;从云母钛表面结构特点入手,利用双电层概念,探讨了ATO与基质云母钛的复合机理.

关键词: 片状导电珠光颜料 , 尿素 , Sn4+/Sb3+摩尔比 , 双电层

尿素水解法制备(1-x)SnO2·xSb2O3导电颜料的研究

谭俊茹 , , 付贤松 , 侯文祥 , 陈秀增 , 黄彩彩

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2004.01.010

以尿素为沉淀剂,利用均匀沉淀法制备(1-x)SnO2*xSb2O3导电颜料(以下简称ATO);探讨了导电机理,对不同制备方法进行了对比;研究了主要工艺参数及煅烧温度对颜料导电性能影响.

关键词: 导电颜料 , 掺杂 , 尿素水解 , 均匀沉淀

导电聚合物电磁屏蔽材料研究现状

, 胡明

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2006.02.021

丰富的电磁波资源在信息行业得到广泛应用的同时,产生的电磁干扰却带来了许多危害.导电聚合物作为一种新型材料在屏蔽电磁波方面展现出了良好的应用前景,主要包括复合型和结构型导电聚合物.介绍了复合型和结构型导电聚合物的导电机理,综述了目前国内外聚合物电磁屏蔽材料(EMI)的最新研究动态,如填充型复合导电聚合物、复合型导电涂料、结构型导电聚合物、纳米电磁屏蔽材料等,其中填充型复合材料及纳米屏蔽材料都将成为研究热点,并探讨了聚合物电磁屏蔽材料的未来发展方向.

关键词: 电磁屏蔽 , 导电聚合物 , 填充型复合物 , 纳米屏蔽材料

化学镀中环氧树脂封装材料粗化的研究

吴晓恩 , 胡明 , 田斌 ,

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.12.007

研究了在环氧树脂封装材料表面进行化学镀铜时前处理过程中最佳粗化工艺条件:300 g/L CrO3,225 mL/L H2SO4,温度85℃,时间30 min.对粗化后的环氧树脂封装材料表面进行了SEM形貌分析、表面粗糙度及表征亲水性的接触角的计算.结果表明,采用的化学粗化工艺适用于此种环氧树脂基材料,在最佳工艺条件下可以得到较好的化学镀铜层,镀层与样件表面的结合力达到5B级,且镀层能起到较好的电磁屏蔽效果.

关键词: 化学镀 , 粗化 , 环氧树脂 , 封装材料 , 电磁屏蔽

硅烷自组装膜对制备于多孔性基底上导电聚吡咯薄膜性能的影响

, 胡明 , 阎实 , 刘志刚

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.08.011

采用硅烷偶联剂对在多孔性绝缘Al2O3膜基底上形成的导电聚吡咯(polypyrrole, PPy)薄膜的形貌及导电性能进行了改善,并探讨了硅烷自组装膜与导电PPy薄膜的形成机理.用硅烷偶联剂对Al2O3膜表面进行改性后,形成了与基底牢固结合的硅烷自组装膜,然后通过化学聚合法在自组装膜上制备得到了均匀致密的PPy薄膜.结果表明:硅烷偶联剂有效地改善了PPy薄膜的均匀性及其与基底的附着性,电导率从5.4S/cm提高到了16.6S/cm.

关键词: 硅烷偶联剂 , 自组装膜 , 聚吡咯薄膜 , 多孔性

电子封装材料表面化学制备高导电率聚吡咯薄膜的研究

, 胡明 , 古美良

功能材料

研究了在环氧树脂塑料封装材料表面制备导电聚吡咯(PPy)薄膜的化学聚合方法,分析了影响聚吡咯薄膜微观形貌、附着力及电导率的因素.用四探针法测聚吡咯薄膜的电导率,并用扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(IR)、X射线光电子能谱(XPS)进行了表征.通过对电子封装材料的表面预处理与改性,制得了附着性好、均匀连续的聚吡咯薄膜,经掺杂电导率达到了45.10S/cm.

关键词: 聚吡咯薄膜 , 电子封装材料 , 化学聚合

石干法研磨过程中偏叶石相的HRTEM研究

严俊 , 张俭 , 严雪俊 , 方飚 , 徐利强 , 盛嘉伟

硅酸盐通报

采用高分辨透射电镜(HRTEM)对叶石研磨的中间产物偏叶石相进行晶体结构的研究,并就研磨与热处理对叶石晶体结构的影响首次进行了傅里叶变换红外(FTIR)光谱的对比.结果表明:(1)干法研磨过程中,叶石研磨的中间相为偏叶石,且研磨使得叶石的晶体结构出现明显的晶格膨胀,其中研磨作用对叶石沿其c轴方向的晶体结构的影响较大.(2)研磨或者热处理条件下,叶石的FTIR光谱中3673 cm-1处峰形尖锐的羟基伸缩振动峰的强度随着研磨时间或煅烧温度的增大而逐渐降低,并最终消失.该结论表明热与机械力研磨处理对叶石晶体结构的破坏具有相似性.

关键词: , 干法研磨 , 偏叶 , 高分辨透射电镜 , 傅里叶红外光谱

石干法研磨中微结构及物相变化研究

严俊 , 胡仙超 , 邵佳明 , 方伟 , 张俭 , 盛嘉伟

硅酸盐通报

采用场发射扫描电镜、高分辨透射电镜结合X射线能谱、X射线粉晶衍射对叶石研磨过程中微结构变化特征进行较系统的研究.结果表明:(1)研磨初期,片层结构叶石粉体逐渐微细化,随着研磨强度的增大,粉体颗粒进一步细化并出现团聚;(2)研磨作用使得叶石晶体结构发生明显改变,由初期的叶石相转变为偏叶石相,最终产物为石英和无定形态氧化铝,其中晶态的石英源自叶石原矿.

关键词: , 微结构 , 扫描电镜 , 高分辨透射电镜

干法研磨中叶石型青田石的微结构改变机制

胡仙超 , 严俊 , 朱选民

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.08.027

采用红外光谱仪(IR)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、高分辨透射电镜(HR-TEM)、X射线粉晶衍射(XRD)仪与热重(TG)等方法对叶石型青田石在干法研磨过程中形貌与晶体结构改变、影响研磨效率的因素及研磨的最终产物等进行研究.结果表明:研磨最终使得单斜晶系叶石变成无定形态,因粉体表面能的增加,机械力研磨使得叶石颗粒发生“细化-团聚-细化”的反复过程.HR-TEM及XRD测试结果表明研磨产物只存在石英相.此外,研磨的球料比可以显著影响叶石晶体结构的改变速率,球料比越大时,破坏速率越大.同时因原矿中石英的硬度高于叶石,使得研磨过程中石英对叶石晶体结构的改变存在一定的抑制作用.

关键词: , 干法研磨 , 石英 , 傅里叶变换红外光谱 , 高分辨透射电镜

利用铝型材厂污泥和叶石制备莫来石材料

曾景旭 , 阮玉忠 , 陈永瑞

硅酸盐通报

以铝型材厂污泥和叶石为主原料制备莫来石材料,属于固体废料和矿物资源的综合利用项目.采用XRD法和SEM法表征各试样的晶相结构和显微结构;用Rietveld Quantification法确定各试样中各晶相的含量.结果表明不同配方的各试样均形成三种晶相,莫来石固溶体Al4.59Si1.41O9.7、Al2O3、SiO2,其中Al4.59Si1.41O9.7是主晶相,其含量为85.3%~97.8%;分析结果确定最佳的配方组成为:污泥为75wt%,叶石为25wt%,Al2O3/SiO2物质的量比为2.4.

关键词: 铝型材厂污泥 , , 莫来石固溶体 , 晶相结构 , 显微结构

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