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硅表面钝化及对异质结太阳电池特性的影响

柳琴 , 刘成 , 叶晓军 , 郭群超 , 李红波 , 陈鸣波

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2012.01.008

研究了不同的晶体硅表面钝化方法,测试分析了硅片的少数载流子寿命以及对晶体硅/非晶硅异质结(HIT)太阳电池性能的影响.发现适当时间的HF溶液处理、氢等离子体处理和表面覆盖约3nm的本征非晶硅层能有效提高硅片的少子寿命,从而提高HIT太阳电池的开路电压.对电池制备工艺综合优化后,得到了基于n型晶体硅的光电转换效率为16.75% (Voc =0.596V,Jsc=41.605mA/cm2,FF =0.676,AM1.5,25℃)的HIT太阳电池.

关键词: 晶体硅/非晶硅异质结(HIT) , 太阳电池 , 表面钝化 , 少子寿命

PECVD法生长晶化硅薄膜的机理

白晓宇 , 郭群超 , 柳琴 , 庞宏杰 , 张滢清 , 李红波

材料科学与工程学报

硅薄膜在太阳电池中有非常重要的应用,薄膜的晶化对硅薄膜的性质和太阳电池效率都有很大影响,研究薄膜晶化理论具有重要意义.选择刻蚀模型认为H原子会轰击薄膜生长表面,打断吸附较弱的化学键,促使形成强的Si-Si键,使薄膜发生晶化.通过Monte Carlo法对具体的生长晶化过程进行了模拟计算,发现薄膜晶相的转变发生在生长温度350K(77℃)以上,并且在低温(T<550K)下,晶化的过程主要发生在氢稀释度90%以上.结果与实验数据在高氢稀释下基本吻合,低氢稀释下有偏差.认为低氢稀释下晶化反应所需中间产物产量少,模型中未被考虑的其他基团影响了它们的相对数量,造成模拟结果的偏差.模型对硅薄膜晶化过程的理论解释有一定的合理性.

关键词: 硅薄膜 , 晶化 , 选择刻蚀模型

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