梅冰
,
乔学亮
,
陈建国
,
李世涛
材料导报
简要介绍了雷达波吸收材料的吸波机制,综述了目前研究得比较多的几种吸波材料的近况,指出了各自的优缺点,概述了这些材料的制备方法和应用,提出了改进性能的方法,最后展望了吸波材料今后的发展.
关键词:
吸波材料
,
吸波机制
,
损耗
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
,
吴长乐
,
梅冰
功能材料
参考最近有关文献,认为抗菌材料已经成为传统材料与环境一体化的方向,作为新型陶瓷抗菌剂的纳米MgO系材料与其它抗菌剂相比,表现出独特的抗菌性和广泛的应用背景,对其研究已成为国外研究的新热点.本文总结了纳米MgO粉体的制备方法,分析了其抗菌机理,概述了其最新研究进展和复合制备技术,最后指出了存在的问题和研究方向.
关键词:
纳米氧化镁
,
抗菌
,
复合抗菌剂
,
吸附作用
,
氧离子O2-
陈其芳
,
王维
,
乔学亮
,
陈建国
,
张韬奇
,
李世涛
材料保护
以硼硅酸盐玻璃粉为主体,加入有机粘结剂,以水为溶剂,研制了一种无毒、无污染的钛合金高温模锻防护润滑涂料.探讨了涂层在不同温度、时间下氧化增重、显微硬度、表面形貌及表面元素的变化情况,并分析了硼硅酸盐玻璃组分的作用及抗氧化机理.结果表明,该涂料在600～900℃钛合金锻造温度范围内具有良好的抗氧化性能.
关键词:
防护润滑涂料
,
高温模锻
,
硼硅酸盐玻璃粉
,
钛合金
,
抗氧化
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
,
王洪水
,
谈发堂
,
邱小林
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.124
介绍纳米吸波剂的吸波剂机理,综述其研究现状,并总结各种薄膜吸波剂的优、缺点.最后对制备强、宽、轻、薄的纳米复合吸波剂进行展望.
关键词:
纳米复合
,
吸波材料
,
铁氧体
,
薄膜
,
透明导电
贾芳
,
乔学亮
,
陈建国
,
李世涛
,
邱小林
,
吴长乐
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.018
透明导电薄膜作为一种新型的光电材料显示出多种优异的光电性能和具有广泛的应用背景.综述了金属基复合透明导电膜的发展历程与研究现状,重点讨论了电介质/金属/电介质(D/M/D)和透明导电氧化物/金属/透明导电氧化物(TCO/M/TCO) 这两种类型的多层复合膜,分析了其设计原理和存在问题,并指出了控制金属层的厚度和界面扩散是制备高性能光电薄膜的重要方面,最后介绍了金属基复合膜应用,并对其研究进行了展望.
关键词:
薄膜
,
透明导电氧化物
,
电介质
,
金属基复合
,
设计原理
梅冰
,
乔学亮
,
邱小林
,
陈建国
,
谈发堂
,
李世涛
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.12.013
介绍了化学镀银工艺中粉体表面预处理的方法,综述了近年来金属粉体、无机粉体和高分子粉体化学镀银的研究和应用状况,分别讨论了3种粉体在化学镀银中的镀液稳定性、粉体表面的催化活性、镀银过程中粉体的分散性及镀层的均匀性等问题,并提出了今后粉体镀银工作的发展方向.
关键词:
化学镀银
,
粉体
,
研究进展
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
中国有色金属学报
将In2O3和SnO2粉末按质量比1:1热压烧结制成靶材,采用射频磁控溅射制备了高性能的ITO薄膜.实验结果表明:氩气压强对薄膜的电阻率、可见光透射率TVIL有着重要的影响,其最佳值为0.2Pa.ITO膜的方阻、TVIL和颜色与膜厚有着密切的关系. 提高基体温度ts可以改善薄膜的性能,在ts为200℃时,ITO薄膜的TVIL达到90%以上(含玻璃基体),方阻为13.1Ω/□. 根据薄膜生长的3个阶段理论,建立了薄膜厚度与电阻率的关系:在ITO薄膜生长过程中,依次出现热发射和隧道效应、逾漏机制以及Cottey模型导电机理. 由实验结果求得了临界厚度dc约为48～54nm,AFM表征结果进一步表明ITO薄膜随着厚度增加表现出不同的导电机理和尺寸效应.
关键词:
ITO薄膜
,
磁控溅射
,
氩气压强
,
基体温度
,
导电机理
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
材料导报
靶材为铟锡氧化物(In2O3:SnO2=1:1),用射频磁控溅射法在低温下制备了光电性能优良的ITO薄膜.质量流量计调节Ar气压强为0.2～3.0Pa,氧流量为0～10sccm,并详细探讨了溅射时氩气压强和氧流量变化对ITO薄膜光学性能的影响.结果表明:溅射Ar气压强为0.8Pa,氧流量为2.4sccm时,薄膜的折射率最低n=1.97,较接近增透膜的光学匹配.薄膜厚度为241.5nm时,薄膜的最大透过率为89.4%(包括玻璃基体),方阻为75.9Ω/□,电导率为8.8×10-4Ω·cm.
关键词:
磁控溅射
,
氧流量
,
ITO薄膜
,
室温
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法,在不同氧流量(0～10sccm)的条件下沉积了铟锡氧化物(In2O3-SnO2)透明导电薄膜.紫外分光光度计测试薄膜的透射率,四点探针测试薄膜的方阻,椭偏仪测试薄膜的复折射率和薄膜厚度,XPS测试ITO薄膜的成分和电子结构.结果表明:薄膜的沉积速率和折射率与氧流量有关,薄膜厚度为60nm,氧流量在9 sccm时,透射率超过80%(波长λ=400 nm～700 nm,包括玻璃基体),退火后透射率、方阻明显改善.XPS分析表明,薄膜中的亚氧化物的存在降低了薄膜的光电性能,控制氧流量可减少亚氧化物.
关键词:
磁控溅射
,
铟锡氧化物
,
透明导电薄膜
,
氧流量
李世涛
,
乔学亮
,
陈建国
材料导报
综述了塑料基体低温沉积ITO薄膜国内外的最新研究现状,并指出了现在存在的问题,认为实现低温沉积、保证薄膜的光电性能和改善薄膜表面质量是3个关键技术.同时结合自己的研究工作,提出了相应的解决方法和建议.
关键词:
ITO薄膜
,
塑料基体
,
低温
