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不同金属基体上W-C:H溅射薄膜的摩擦学性能

郑军 , 周晖 , 杨拉毛草 , 张延 , 翟广泉

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.015

采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石(W-C:H)薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩擦试验机及光学轮廓仪分别在干摩擦和PFPE脂润滑条件下评价了5种金属材料基体上薄膜的摩擦磨损性能.薄膜性能测试结果显示,该厚度为1μm的薄膜具有典型的类金刚石结构,硬度与弹性模量分别为11.56和128.34 GPa,附着力为645 mN;摩擦试验结果显示,在干摩擦条件下几种金属基体表面W-C:H薄膜的摩擦因数和磨损率差别比较显著,而在脂润滑条件下基体材料的影响较小;与干摩擦条件相比,脂润滑条件下薄膜的磨损可减少60% ~75%;在干摩擦与脂润滑条件下,9Cr18与40Cr基体上的W-C:H薄膜摩擦体系分别具有最小的磨损率1.71×10-7 mm3/(N·m)及4.55×10-8 mm3/(N·m).

关键词: W-C:H薄膜 , 摩擦学 , PEPE润滑脂 , 力学性能 , 非平衡磁控溅射

球墨铸铁的密封球化处理

张瑞龙

金属学报

<正> 引言 在社会主义经济建设的大跃进中,钢材和毛坯供不应求,特别是大型铸钢和锻钢生产远远不能满足需要的形势下,让球墨铸铁与钢并肩作战,球墨铸铁广泛的代替钢料的意义是非常深远的。而大量生产球墨铸铁的情况下,就暴露了镁的供应不足。用一般钟罩法处理,大量的镁都燃烧和蒸发消耗掉,劳动条件非常恶劣,而且球化还不稳定。更引起注意的是镁用多了,给国防工业带来了损失。

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