房也
,
孙宝玉
,
巴德纯
,
娄树普
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2009.04.007
选用Nd-Pr,Fe-B合金,纯铁以及海绵锆为原料,按一定的比例,采用低氧(真空、Ar气)速凝工艺,在1400℃～1450℃,φ600mm×500mm规格铜轮,v=1m/s～2m/s的冷却强度下,制备厚度为0.2mm～0.45mm的(Nd,Pr)-Fe-B稀土永磁母合金薄片,并对产物通过XRD,SEM进行表征.采用一定工艺将合金制备成烧结永磁体,通过对退磁曲线分析,证明可获得性能理想的(Nd,Pr)-Fe-B产品.
关键词:
低氧速凝
,
稀土永磁
,
铸带
王志
,
巴德纯
,
于春宏
,
梁吉
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01244
使用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD), 以Fe3O4纳米粒子为催化剂, 多孔硅为基底, 采用CH4/H2和CH4/B2H6/H2两种气源在连续的CVD过程中大量合成了一种新型的纳米管异质结构. 扫描电镜(SEM) 和透射电镜(TEM)观察表明: 合成的异质结构一端是类竹节状的掺硼碳纳米管, 另一端是光滑中空的纯碳纳米管. 异质结构采用底端生长模式, 先行生长的掺硼纳米管处于纳米管结构的顶端.
关键词:
ECR-CVD
,
junction
,
carbon nanotube
,
boron-dopedenddocument
王志
,
巴德纯
,
于春宏
,
梁吉
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.05.035
使用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD),以Fe3O4纳米粒子为催化剂,多孔硅为基底,采用CH4/H2和CH4/B2H6/H2两种气源在连续的CVD过程中大量合成了一种新型的纳米管异质结构.扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察表明:合成的异质结构一端是类竹节状的掺硼碳纳米管,另一端是光滑中空的纯碳纳米管.异质结构采用底端生长模式,先行生长的掺硼纳米管处于纳米管结构的顶端.
关键词:
ECR-CVD
,
异质结构
,
碳纳米管
,
硼掺杂
廖国进
,
巴德纯
,
闻立时
,
朱振华
,
刘斯明
稀有金属材料与工程
用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜.XPS监测显示,薄膜中有Ce3+生成.这些薄膜的光致发光峰是在374 nm附近,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁.发光强度强烈地依赖于薄膜的掺杂浓度,但发光峰位置不随掺杂浓度而变化.Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的.薄膜试样的晶体结构应用X射线衍射分析.俄歇电子谱用于对薄膜材料的化学组分进行定性分析.发射纯蓝光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景.
关键词:
光致发光
,
Al2O3
,
薄膜
,
磁控溅射
,
稀土元素
张以忱
,
吴宇峰
,
巴德纯
,
马胜歌
钢铁研究学报
采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti/TiN/Ti(C,N)膜系的硬质薄膜.通过改变工作气氛、基体负偏压等工艺参数,对制备薄膜的硬度进行检测分析,结果表明:在Ti(C,N)薄膜的制备中,工作气氛和基体负偏压是影响薄膜硬度的主要因素.当工作气体的通人比例C2H2/(N2+Ar)＜1/9时,薄膜硬度较高.当通入的乙炔(C2H2)流量增加时,会明显降低薄膜硬度.当基体负偏压在一定范围内增加时,薄膜硬度随之逐渐提高;当负偏压增加到200 V时,薄膜硬度最大;负偏压超过200 V,薄膜硬度明显下降.基体材料对薄膜硬度的影响较大,在不同基体材料上镀制同一种硬质薄膜时,薄膜硬度不同;3种基体材料上沉积薄膜的硬度数316L不锈钢基体上的薄膜硬度最低.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
Ti(C,N)薄膜
,
薄膜硬度
,
基体负偏压
孙宝玉
,
巴德纯
,
房也
,
杨彬
,
岳向吉
,
段永利
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2010.04.004
采用直流(Dc)磁控溅射的方法,在烧结NdFeB磁体表面制备了DyAl合金薄膜,镀膜样品经真空热扩渗(800℃x6h)和时效处理(900℃x2.5h+490℃x5h),研究了样品的微观结构组织与磁性,并对Dy、Al元素在基体中的真空热扩渗行为进行了探讨.结果表明,随着DyAl合金薄膜厚度的增加,磁体的内禀矫顽力Hcj相应提高,内禀矫顽力Hcj提高176kA/m(2.2kOe).通过对样品微观组织结构观察发现Dy和Al元素沿晶界富Nd相优先扩散,大量集中分布在主相晶粒表层和富Nd相交界处,不仅改善了晶界表面浸润性,也改变了主相晶粒表层合金成分和微结构,这种晶粒表面与晶界相的改性导致烧结NdFeB磁体的内禀矫顽力Hcj提高.
关键词:
磁控溅射
,
DyAl合金
,
薄膜
,
烧结NdFeB
,
真空热扩渗
廖国进
,
巴德纯
,
闻立时
,
刘斯明
,
阎绍峰
功能材料
应用中频反应磁控溅射技术在载玻片上制备掺铈的Al2O3薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为43ml/min,氧流量为10ml/min,室温下溅射时间为90min的条件下,通过控制薄膜中的Ce3+离子的掺杂量来改变薄膜的发光性能.通过X光能量散射谱(EDS)和光致发光测量,得到发光强度和发光峰位对薄膜中的Ce3+浓度有强烈的依赖关系,并且分析了产生这种关系的原因;对发光激发谱分析表明,薄膜发光是源于薄膜中形成的氯化铈集合体中的Ce3+.Al2O3:Ce3+发光膜可应用于需要蓝光发射的平板显示领域.
关键词:
三氧化二铝薄膜
,
磁控溅射
,
掺杂浓度
,
光致发光
,
Ce
王庆
,
巴德纯
,
王晓冬
,
靳雨菲
钢铁研究学报
介绍了RH-KTB炉外精炼真空抽气系统的工作原理和故障特点.该系统的故障诊断应能从大量数据中快速提取征兆并及时诊断,且有一定的自学习能力.为此,采用一种以实例为基础的归纳学习算法即ID3算法进行故障诊断.ID3算法有一定的自学习、自组织能力,适用于复杂系统的智能诊断.通过讨论分析了ID3算法的特点和作用.
关键词:
决策树
,
真空
,
智能
,
故障诊断
孙宝玉
,
巴德纯
,
房也
,
杨彬
,
段永利
功能材料
机加工成一定尺寸和形状的烧结NdFeB薄型磁体,由于表面晶粒形变和缺陷的产生引起了磁性能的降低,适当的真空退火热处理后,其磁性能将会得到恢复和提高.通过SEM扫描电镜,X射线衍射和磁性能的测量,研究了退火热处理对磁体表面层晶粒微结构、应变、亚晶粒尺寸和磁性能的影响.结果表明,在三相共晶点温度以上,900℃×2h+490℃×5h的退火可以完全消除机加工产生的应变、应力和缺陷.其次,表面层内晶界富Nd相的毛细管作用和扩散迁移,使富Nd相均匀、连续地分布在晶粒和晶界周围.这种富Nd相网状结构,消除了机加工磁体表层内的晶界裂纹和缺陷,对磁体性能的恢复和提高起着重要的作用.
关键词:
NdFeB
,
薄型磁体
,
磁性能
,
真空退火
,
微组织结构
,
应变和亚晶粒
