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金刚石厚膜的晶界对耐磨性的影响

, 冯玉玲 , 纪红 , 郑涛 , 杨传经 , 李博 , 金曾孙

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.03.007

用直流辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜,用氢的微波等离子体对其抛光截面进行刻蚀,研究了晶界对金刚石厚膜耐磨性的影响.结果表明:在金刚石膜的生长过程中,随着甲烷流量的增加,金刚石膜的晶界从纵向排列为主过渡到网状结构,晶粒内部缺陷逐渐增加,杂质、空洞主要分布于晶界处.金刚石膜的磨耗比随着晶界密度、宽度、杂质含量及晶粒内部缺陷的增加而下降.晶界是杂质、空洞主要富集区,是影响金刚石厚膜耐磨性的主要因素.

关键词: 无机非金属材料 , 金刚石厚膜 , 等离子体刻蚀 , 晶界 , 耐磨性

表面处理剂对钛白粉在丙烯酸涂料中性能的影响

, 刘立新

涂料工业

通过不同的有机表面处理剂对钛白粉进行有机包覆,并以其制备溶剂型涂料.采用高速分散和混合振荡法,考察了丙烯酸树脂体系中钛白粉的分散性、分散稳定性以及遮盖力等应用指标.对比实验表明,不同的有机表面处理剂对钛白粉在丙烯酸树脂体系中性能有较大影响,其中经过有机处理后的R2钛白粉在此体系中性能较好,能够达到国外同类产品的应用性能指标.

关键词: 钛白粉 , 丙烯酸树脂 , 遮盖力 , 分散性 , 分散稳定性

非晶铟镓锌氧化物薄膜的制备及其在薄膜晶体管中的应用

李光 , 郑艳彬 , 王文龙 ,

硅酸盐通报

非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)薄膜,作为一种新型透明氧化物半导体材料,最近引起了广泛关注.这主要是由于它优异的性能可以使它作为薄膜晶体管的有源层材料,在显示行业有巨大的应用前景.本文首先介绍了铟镓锌氧化物的结构,同时综述了非晶铟镓锌氧化物薄膜的制备方法,包括溅射、悬涂和喷墨印刷技术;最后对基于铟镓锌氧化物薄膜晶体管背板技术的产业化进行了展望.

关键词: 非晶铟镓锌氧化物 , 薄膜 , 溅射 , 悬涂 , 喷墨印刷

热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜的生长特性和内应力

金曾孙 , , 胡航 , 曹庆忠

新型炭材料 doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2003.01.012

采用热阴极DC-PCVD(Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition)方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的生长特性和内应力状态.由热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜大多数为〈110〉取向,表面显露面主要是(100)面和(111)面,厚膜的表面被较多的孪晶所覆盖,部分(111)面退化为3个相互垂直的(110)面,孪晶使厚膜表面结晶特性复杂化,金刚石厚膜的晶粒沿生长方向呈现柱状生长.金刚石厚膜的生长速率随甲烷流量和工作气压的增加而增加,但随生长速率的提高金刚石膜的品质明显下降.金刚石厚膜的内应力以压应力为主,随着甲烷浓度的增加压应力增加,随着工作气压的增加压应力减小,到某个气压之后变为张应力.

关键词: 热阴极DC-PCVD , 金刚石厚膜 , 生长特性 , 内应力

添加剂在四氯化钛气相氧化过程中的作用机制

吕滨 , 于学成 , 吴琼 , , 臧颖波 , 王凯

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2012.05.018

以气态四氯化钛为前躯体,水蒸气、三氯化铝和氯化钾为添加剂,采用高温气相氧化法制备出金红石型二氧化钛超细粉.通过热力学计算、X射线衍射(XRD)、粒度分析、扫描电镜联用X射线光电子能谱(SEM-EDX)等方法研究了水蒸气、三氯化铝和氯化钾在气相反应过程中的作用机制及二氧化钛粒子的形成过程.结果表明,水蒸气起到了成核剂的作用,它与四氯化钛及三氯化铝反应生成的相应氧化物提供了气相反应所需的晶核;三氯化铝作为晶型转化剂的同时,在改善二氧化钛表面状态等方面起到了重要作用;氯化钾是一种离子剂,它的加入提高了二氧化钛粉体的分散性,获得了均匀的粒度分布,细化了晶粒,改变了粉体的消色力.随着氯化钾加入量的逐渐提高,二氧化钛的消色力随之增加,当氯化钾的加入量在(100~120) ×10-6时,消色力达到125%.研究同时表明,气相反应中二氧化钛微粒的形成过程可以分为:非均相成核—表面作用与晶型转化—颗粒长大与静电作用等基元步骤.

关键词: 气相氧化法 , 二氧化钛 , 金红石型 , 氯化法 , 消色力

直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜

金曾孙 , , 白亦真 , 吕宪义

新型炭材料 doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2002.02.003

建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)方法.通过采用温度为1100℃~1500℃的热阴极以及阴极和阳极尺寸不相等配置,在大的放电电流和高的气体气压下实现了长时间稳定的辉光放电,并用这种方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,其厚膜直径为40mm~50mm,膜厚为~4.2mm,生长速率最高达到25μm/h左右,在5μm/h~10μm/h的生长速率下制出的金刚石厚膜,热导率一般在10W/K*cm~12W/K*cm.高导热金刚石厚膜用做半导体激光二极管列阵的热沉和MCM的散热绝缘基板,明显地改善了它们的性能.

关键词: 热阴极 , PCVD , 金刚石厚膜

热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响

白亦真 , 金曾孙 , , 韩雪梅

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2003.05.014

研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系.结果表明,适当的阴极温度是保证大电流、高气压辉光放电的必要条件.阴极的温度影响辉光放电阴极位降区的放电性质.金刚石膜的沉积速率随着气体压力(16~20 kPa)的升高而上升,在18.6 kPa左右出现最高值,而阳极位降区电场强度的降低使膜品质下降.放电电流(8~12 A)对沉积速率的影响与气体压力的影响具有相似的规律.

关键词: 无机非金属材料 , 热阴极 , 等离子体化学气相沉积 , 辉光放电 , 金刚石膜

洋葱碳的制备与应用研究进展

郑艳彬 , , 朱品文

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140646

洋葱碳独特的结构,使其具有优异的物理化学性能。本文首先介绍了洋葱碳的分类和结构,对几种传统的制备方法(包括电弧放电法、等离子体、电子束辐射、化学气相沉积、纳米金刚石真空退火、热解法)的优缺点进行归纳、总结。其次,介绍了近年来发展起来的制备方法。随后,对近年来洋葱碳在锂离子二次电池负极、染料敏化太阳能电池对电极、电化学储氢电极、超级电容器电极、摩擦和磨损、催化领域的应用做一概述。最后,指出了目前洋葱碳在制备和应用方面的不足,对今后的研究做了展望。

关键词: 洋葱碳 , 制备方法 , 应用 , 研究进展

聚晶金刚石的高温高压制备及其性能研究进展?

郑艳彬 , , 朱品文

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.23.012

聚晶金刚石(PCD)刀具在加工非铁基材料时,尤其是一些超硬、耐磨材料时,其寿命和加工精度远高于传统刀具。聚晶金刚石的性能与原材料和烧结条件密切相关。概述了不同因素对以陶瓷为粘结剂的聚晶金刚石和无粘结剂的纳米聚晶金刚石的硬度、断裂韧性的影响并比较了不同种类 PCD的热稳定性能。分析得到以过渡金属硼化物和碳化硅为粘结剂所制备的PCD的热稳定性能较好,优于以钴为粘结剂制备的PCD;在 Hall-Petch 定律作用下,以纳米尺寸陶瓷为粘结剂的PCD硬度更高,韧性更强;无粘接剂的纳米聚晶金刚石的力学、热学性能最为优异。最后,结合实际应用对聚晶金刚石的制备提出了参考性的建议。

关键词: 聚晶金刚石 , 粘结剂 , 硬度 , 热稳定性

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