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用ODF理论研究Fe-30Ni合金α-γ_r逆相变过程的织构变化

孙丽娟 ,

金属学报

研究了Fe-30Ni合金冷轧板由马氏体到奥氏体(α-γ_r)逆相变过程中的织构变化.原始材料的组织状态为形变马氏体、淬火马氏体及残余奥氏体.经过在不同温度加热后,利用X射线衍射精确测量了马氏体及奥氏体的取向密度分布函数(OrientationDistributionFunction简称ODF).结果表明,逆相变过程中奥氏体的织构变化可分为两个阶段:低温区,奥氏体织构逆变为原冷轧奥氏体织构,相变的进行可解释为具有强烈取向选择的剪切机制;高温区,相变的进行为定向长大机制,逆变奥氏体织构与冷轧奥氏体织构之间出现偏差,{211}〈111〉织构成分比原冷轧织构强度变弱.由ODF差得到两温度区间的相变停止温度,此温度与取向有关,并可假设为相变机制变化温度.相变停止温度越高的取向,以定向长大机制进行的相变开始得越晚.

关键词: 织构 , null , null

宗昌等《贝氏体铁素体的形核》一文

徐祖耀

材料热处理学报

文中,关于贝氏体形成机制,包括形核过程的文献很少被引述。作者(等)的主要论点为贝氏体铁素体以无扩散、非切变机制在奥氏体内贫碳区形核,并未引述形成贫碳区的必要条件。本文作者强调,在钢及铜合金中,不可能由Spinodal分解和位错偏聚形成贫溶质区。等的理念未得到先进理论观点和精细实验结果的支持。在文中,据此对临界核心大小和形核能的计算并无显著意义,期望青年学者对贝氏体相变机制作进一步研究。

关键词: 贝氏体形核 , 扩散机制 , 切变机制 , 贫碳区

汝官瓷、张公巷窑青瓷和家门窑青瓷的判别分析研究

蔡敏敏 , 李国霞 , , 李融武 , 赵文军 , 承焕生 , 郭敏

硅酸盐通报

利用质子激发X射线荧光分析(PIXE)测试分析汝官瓷、张公巷窑青瓷和家门窑青瓷样品的主要化学组成,用多元统计判别分析方法对数据进行分析,以确定它们的分类和起源关系.结果表明:汝官瓷、张公巷窑青瓷和家门窑青瓷釉基本能很好的区分;但是胎区分得不是很理想,张公巷窑青瓷的胎可以和汝官瓷、家门窑青瓷胎很好的区分,汝官瓷胎和家门窑青瓷胎有个别样品不能分开.

关键词: 汝官瓷 , 张公巷窑青瓷 , 家门窑青瓷 , 判别分析

汝官瓷、钧官瓷和家门窑青瓷的多元统计分析

肖朋飞 , 赵红梅 , 李融武 , 赵文军 , 李国霞 , , 承焕生

硅酸盐通报

本文采用质子激发X射线荧光分析(PIXE)技术测试了34个汝官瓷样品、30个蓝色系列钧官瓷样品(不含红釉系列)和17个家门窑青瓷样品的主量化学组成含量,根据这些样品的主量化学组成含量数据,应用多元统计分析方法进行分析.结果表明:汝官瓷、钧官瓷和家门窑青瓷的釉样品能够较好的区分开;但是3种瓷胎并不能很好的分开.

关键词: 汝官瓷 , 钧官瓷 , 家门窑青瓷 , PIXE , 因子分析

,二和三Si基纳米线的制备

胡卫兵 , 史伯安 , 但悠梦 , 谭志斗 , 吴少尉 , 朱艳秋 , 徐文光

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.03.011

在 Ar气氛中,SiC粉末分别在 Fe、 Co、 Fe:Co(1:1)的催化下,经一步反应制备了一、二和三 Si基纳米线. SEM、 HRTEM、 EDX分析表明一线状和二网状 Si基纳米线由 C、 Si、 O组成,存在两类纳米线,一类是 SiOx包裹的 Si纳米线;另一类是 SiOx包裹的 SiC纳米线.三Si基纳米线组成象花一样的结构,仅由 SiOx组成. SiOx和 Si是无定形结构,SiC是β-SiC单晶.

关键词: , , , Si基纳米线 , 制备

材料的研究

李燕 , 姜斌 , 邓宏 , 蒋书文 , 周晓燕

材料导报

主要论述了低材料的制造方法、特异性能及在光电子和微电子器件领域的应用,包括介质超晶格、金属超晶格和一量子线;介绍了我们分别采用激光分子束外延制备的BaTiO3/SrTiO3介质超晶格及其介电性能、直流磁控溅射法制备的强紫外光反射的Cu/Ti超晶格和宽禁带的一ZnO量子线;描述了低材料的发展前景.

关键词: 材料 , 介质超晶格 , 金属超晶格 , ZnO量子线

氮化镓低材料

陈小龙

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.03.013

本文综述了本实验室近年来在半导体低材料制备和结构方面的一些进展,内容包括纳米线、纳米带、量子点、纳米固体的制备和结构特征、纳米线径向生长动力学和表面形貌稳定性.

关键词: 氮化镓低材料 , 生长动力学 , 形貌稳定性

基于二方孔光栅的平面三显示

孔令胜 , 王天聪 , 蔡盛 , 钟兴 , 张雷 , 徐开 , 金光 , 乔彦峰 , 贾继强

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.06.029

狭缝光栅实现平面三显示具有低成本、光栅参数易于改变和无需对焦的优点,但存在遮挡画面影响亮度的缺点;二透镜阵列具有全视差且深度感知自然的优点,但存在显示像素低和观察视角小的缺点.为了同时兼顾上述两种方案的优点,结合一狭缝光栅和二透镜阵列提出了一种基于二方孔光栅的平面立体显示方案.Lighttools软件仿真实验结果表明:基于二方孔光栅的平面三显示原理可行.其像质因子略小于一狭缝光栅的像质因子,但继承了一狭缝光栅和二透镜的优点,是实现平面三显示的一种新的发展方向.

关键词: 平面三显示 , 纵横视差 , 像质因子

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