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Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜/光纤弱磁场探测性能研究

, 马世宁 , 斯永敏 , 李长青

稀有金属材料与工程

采用磁控溅射工艺,由计算机程序控制,在光纤表面制备了厚度均匀的Tb0.29Dy0.71Fe1.8超磁致伸缩薄膜.利用马赫-曾德尔干涉仪,对Tb0.29Dy0.71Fe1.8超磁致伸缩薄膜/光纤传感系统的磁探测性能进行了实验测试.结果表明:在调制频率1 kHz附近,传感系统对磁场具有最大的信号响应;在恒定直流磁场及调制磁场强度小于1 kA/m条件下,系统输出信号大小随调制磁场强度线性增加,但调制磁场强度较大时会引起直流工作点的波动;在35~50 kA/m的直流磁场范围内,系统输出信号随磁场强度的变化率较大,传感系统(对应1 m长传感臂)可探测的最小磁场变化为8.6×10-2 A/m,若采用分辨率为10-6 rad.的干涉仪并增加镀膜光纤的长度和Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜厚度,则可进一步提高系统的磁探测灵敏度.

关键词: 磁控溅射 , 光纤传感器 , 超磁致伸缩薄膜 , 马赫-曾德尔干涉仪

纳米SiO2水中分散性能的影响因素研究

, 孙晓峰 , 邱骥 , 李新

硅酸盐通报

采用十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为分散剂,通过超声波作用对纳米SiO2粉体进行水中分散,并采用分散体系粒径分析和测定Zeta 电位及透光率的方法,研究了SDBS含量、超声分散时间等因素对分散性能的影响.结果表明,纳米SiO2的粒径随分散剂含量、超声时间的增加,表现出先减小后缓慢增大的变化趋势.在适量SDBS的条件下,纳米SiO2分散体系因静电和空间位阻的作用而表现出良好的分散稳定性.SDBS对纳米SiO2粉体的较佳分散工艺为:SDBS含量为1.6% ,超声处理时间为18 min.

关键词: 纳米SiO2 , 分散剂 , 稳定性 , 粒径

应力对非晶超磁致伸缩薄膜形变影响的理论计算

, 斯永敏

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.02.032

分析材料磁化过程中引起磁致伸缩的机理,考虑应力对磁化过程的影响,通过将应力作用等效为磁场,并假设非晶超磁致伸缩薄膜的低场磁化为可逆过程,根据能量最低原理,建立了磁致伸缩薄膜形变与应力之间的关系,给出了表达式.

关键词: 超磁致伸缩 , 非晶薄膜 , 应力 , 等效磁场

SmC0薄膜磁控溅射沉积速率的影响因素

, 马世宁 , 孙晓峰 , 李新

材料科学与工程学报

SmCo薄膜的厚度是影响其磁性能的重要因素,而沉积速率是控制薄膜厚度的关键.采用直流磁控溅射工艺制备SmCo薄膜,设计正交实验并通过数理统计方法研究了溅射工艺参数中溅射功率、靶基距及氩气压强对SmCo薄膜沉积速率的影响,并同时考察了不同厚度SmCo薄膜的磁性能变化规律.研究结果表明:溅射功率与靶基距都对薄膜的沉积速率有较大的影响,其中在溅射功率为40~120W范围内时,随着溅射功率的增大SmCo薄膜的沉积速率逐渐提高;在靶基距为50~70mm的范围内,SmCo薄膜的沉积速率随靶基距的增大而逐渐降低;而在氩气压强处于0.7~1.5Pa范围内时,SmCo薄膜的沉积速率几乎不随氩气压强的改变而变化.在溅射功率为80W、靶基距为60mm及氩气压强为1.1Pa的工艺条件下,SmCo薄膜的沉积速率具有很好的稳定性.随膜厚从0.59μm增加到0.90μm,SmCo薄膜的矫顽力由23.4kA/m降低到8.2kA/m.

关键词: SmCo , 磁控溅射 , 工艺参数 , 沉积速率

功率对磁控溅射TbDyFe薄膜磁致伸缩性能的影响

, 马世宁 , 乔玉林 , 李长青

稀有金属材料与工程

采用直流磁控溅射工艺制备TbDyFe磁致伸缩薄膜,通过考察薄膜成分及其微结构,分析研究了溅射功率对薄膜磁致伸缩性能的影响.结果表明,同一薄膜内部成分相当均一,但不同溅射功率条件下的薄膜成分相异.溅射功率较低,薄膜内部微柱状体结构导致了磁各向异性的产生,磁致伸缩性能下降;溅射功率提高到120 W,微柱状体结构消失,薄膜内部趋于均一连续,磁致伸缩性能较好.

关键词: 磁控溅射 , TbDyFe薄膜 , 磁致伸缩 , 溅射功率

CrMoCu铸铁离子氮碳共渗/渗硫复合层的微观结构

李新 , 马世宁 , 邱骥 , ,

材料热处理学报

利用SEM、TEM、EDS、X射线衍射及电子衍射等表面分析技术,研究了在CrMoCu合金铸铁表面制备的离子氮碳共渗/渗硫复合层的微观结构,探讨了氮碳共渗处理对渗硫层形成的影响规律。结果表明:氮碳共渗表面形成的微观粗糙为与硫接触反应提供了丰富界面及表面缺陷,同时氮碳共渗形成的ε相Fe3N的晶体结构类型与渗硫层的FeS的晶体结构相同,因此与在基体表面渗硫相比,有利于渗硫层的形成。

关键词: 离子氮碳共渗 , 离子渗硫 , 复合层 , 微观结构 , 复合处理

AlN压电薄膜研究进展

, 斯永敏

材料导报

介绍了AlN压电薄膜的研究现状,着重突出了AlN薄膜的制备方法、择优取向结构及表面形貌等方面的研究,尤其对脉冲激光沉积工艺(PLD)镀膜的基本原理和过程、分别采用周期价键链(PBC)理论和断键模型对薄膜晶面择优取向机理的分析作了较为详细的探讨.最后简单讨论了AlN压电薄膜研究的发展趋势.

关键词: AlN , 压电薄膜 , 择优取向 , 脉冲激光沉积

CrMoCu合金铸铁离子渗硫层的摩擦学性能研究

李新 , 马世宁 ,

材料热处理学报

利用MM-200摩擦磨损试验机,在油润滑条件下对CrMoCu合金铸铁表面离子渗硫层的摩擦学性能进行了研究.结果表明,在油润滑条件下,渗硫试样的摩擦学性能优于未处理试样.利用扫描电镜(SEM)及X射线衍射仪(XRD)分析了渗硫层表面微观形貌和相组成.研究表明,渗硫层中微小"毛细管"的存在,使其表面具有超常储油功能,从而使渗硫层具有良好的减摩、耐磨性能.

关键词: 离子渗硫 , CrMoCu合金铸铁 , 摩擦学性能

家洼金矿床矿石及矿物特征研究

吴长航 , 金云霄 , 韩新志

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2005.07.005

家洼金矿床矿石属少硫化物型金矿石,矿物种类丰富,金属矿物含量约5%,脉石矿物含量约95%.金矿物有自然金和银金矿,在矿石中分布很不均匀,以粒间金和裂隙金为主要赋存形式.

关键词: 家洼金矿床 , 少硫化物型矿石 , 矿物特征

合金溅射轰击诱发的布斯偏析现象

郑里平

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2003.01.012

建立了包括质量效应、键合效应和轰击诱发布斯偏析效应的蒙特卡罗模拟程序; 并对轰击诱发布斯偏析效应的两大特征(表面成分梯度特征和表面成分梯度的中间性特征)进行了研究. 模拟解析了为何在被轰击合金表面形成了一个偏析元素的成分梯度; 为何被轰击合金表面的成分梯度、溅射角分布和溅射产额具有中间性特征.

关键词: 合金溅射 , 轰击诱发布斯偏析 , Monte Carlo模拟

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