柳建韬
,
阮雪榆
,
曹璇琛
,
唐多光
,
刘以宽
钢铁
在正交试验的基础上,采用方差分析的方法研究了四个工艺参数(终轧温度θf,终轧变形量εf,淬火温度θq,以及轧后缓冷时间tn)对单张热轧双相钢(0.07 %C-1.69 %Mn-0.93 %Si)力学性能的影响,据此,提出了较优的生产工艺参数.
关键词:
热轧双相钢
,
工艺参数
,
力学性能
,
正交试验
,
方差分析
徐祖耀
材料热处理学报
刘文中,关于贝氏体形成机制,包括形核过程的文献很少被引述。作者(刘等)的主要论点为贝氏体铁素体以无扩散、非切变机制在奥氏体内贫碳区形核,并未引述形成贫碳区的必要条件。本文作者强调,在钢及铜合金中,不可能由Spinodal分解和位错偏聚形成贫溶质区。刘等的理念未得到先进理论观点和精细实验结果的支持。在刘文中,据此对临界核心大小和形核能的计算并无显著意义,期望青年学者对贝氏体相变机制作进一步研究。
关键词:
贝氏体形核
,
扩散机制
,
切变机制
,
贫碳区
蔡敏敏
,
李国霞
,
赵维娟
,
李融武
,
赵文军
,
承焕生
,
郭敏
硅酸盐通报
利用质子激发X射线荧光分析(PIXE)测试分析汝官瓷、张公巷窑青瓷和刘家门窑青瓷样品的主要化学组成,用多元统计判别分析方法对数据进行分析,以确定它们的分类和起源关系.结果表明:汝官瓷、张公巷窑青瓷和刘家门窑青瓷釉基本能很好的区分;但是胎区分得不是很理想,张公巷窑青瓷的胎可以和汝官瓷、刘家门窑青瓷胎很好的区分,汝官瓷胎和刘家门窑青瓷胎有个别样品不能分开.
关键词:
汝官瓷
,
张公巷窑青瓷
,
刘家门窑青瓷
,
判别分析
肖朋飞
,
赵红梅
,
李融武
,
赵文军
,
李国霞
,
赵维娟
,
承焕生
硅酸盐通报
本文采用质子激发X射线荧光分析(PIXE)技术测试了34个汝官瓷样品、30个蓝色系列钧官瓷样品(不含红釉系列)和17个刘家门窑青瓷样品的主量化学组成含量,根据这些样品的主量化学组成含量数据,应用多元统计分析方法进行分析.结果表明:汝官瓷、钧官瓷和刘家门窑青瓷的釉样品能够较好的区分开;但是3种瓷胎并不能很好的分开.
关键词:
汝官瓷
,
钧官瓷
,
刘家门窑青瓷
,
PIXE
,
因子分析
郭崇武
电镀与涂饰
制定了宽温酸性镀酸锌工艺.滚镀的最佳工艺为:氯化锌45~55 g/L,氯化钾200 ~ 230 g/L,硼酸30~35 g/L,402主光剂1 mL/L,402辅光剂30 mL/L,温度15~45℃,pH=4.5~5.5,电压5.5~6.5 V.挂镀时只需改氯化锌含量为55~65 g/L,电流密度1~3 A/dm2.该工艺允许的温度范围宽,镀液稳定,出光快,均镀能力和深镀能力好.所用主光剂和辅光剂都具有较好的抗氧化能力.
关键词:
酸性镀锌
,
温度范围
,
光亮剂
,
抗氧化性
连铸
连铸的可浇铸宽度一直在稳定增加,已有几台连铸机成功地浇铸了宽度3~3.2m的板坯.2004年,奥钢联在中国南京钢铁有限公司调试了世界上最宽的中厚板坯连铸机,以拉速2m/min生产3.25m宽的板坯.该连铸机是在奥钢联许多宽度大于2m的传统连铸机和中厚板坯连铸机的基础上建成的,其宽厚比达到"近终型"浇铸.本文讨论奥钢联在宽板坯连铸方面的能力和专长.宽板坯连铸设计的关键在于结晶器内的注流状况,结晶器、铸坯导向段的支撑和二冷喷淋的设计以及连铸自动化.
关键词:
任韧
,
陈长乐
,
徐进
,
金克新
,
王永仓
,
王跃龙
,
汪世林
,
宋宙模
,
袁孝
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2004.05.011
在气体配比HCl:Xe:He=0.12%:1%:98.88%实现了大功率短脉冲XeCl准分子激光器,以纳米异质结构、微观量子阱、表面微小尺度薄膜沉积,镀制金刚石薄膜、半导体薄膜、巨磁薄膜,及外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的,设计了高能量、短脉宽脉冲放电激励的XeCl准分子激光器新型结构,完成了脉冲波形测试.试验结果表明:激光脉宽最短13 ns,单脉冲能量450 mJ,矩形光斑大小2 cm×1 cm,束散角3 mrad,最高重复频率5 Hz.验证了激光器结构、动力学速率方程、总结出了饱和增益、脉宽规律.产生的短脉宽激光热融蚀效应小,类金钢石材料对基底形成了良好的等离子溅射羽辉.
关键词:
激光技术
,
XeCl激光
,
纳秒放电
,
脉冲激光沉积技术
,
预电离
,
辉光放电
朱华新
,
王彤彤
,
高劲松
,
刘桂林
,
李帅
人工晶体学报
本文以K9为基底设计了一种宽通带宽截止带通滤光片,即:540~750 nm为通带区域,400 ~ 520 nm、770~1100 nm为截止带区域,为实现这一特性,在K9基底的两侧分别设置长波通和短波通组合膜系,分别用于截止400~520 nm和770~1100 nm,而两者通带交集为540 ~ 750 nm,膜层总数为48层,膜层总厚度达5.03 μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料.利用分光光度计对镀有该组合膜的样品透过率进行测量,测试结果表明540~750 nm通带平均透过率达到了85.82%,通带相对半宽度达221 nm,400 ~ 520 nm和770 ~ 1100 nm的截止度分别达到1.36%和1.27%,实验结果与理论设计基本吻合,达到了宽通带宽截止的目标,环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度.该组合膜系可以应用于可靠性要求较高的环境中.
关键词:
光学薄膜
,
电子束蒸发物理气相沉积
,
透过率