侯亚奇
,
庄大明
,
张弓
,
方玲
,
吴敏生
催化学报
用中频交流反应磁控溅射技术制备了具有良好光催化性能的TiO2薄膜,考察了紫外光源、反应器和溶液浓度对亚甲基蓝溶液光催化降解特性的影响.结果表明,紫外光源对TiO2薄膜光催化降解性能有较大的影响; 在计算光催化降解速率时应充分考虑光解和光氧化的影响.低压汞灯TUV为光催化降解的较好选择.动态反应系统可以有效避免光解,显著提高光催化反应速度.TiO2薄膜具有很好的光催化性能,且性能稳定.
关键词:
氧化钛
,
薄膜
,
光催化降解
,
亚甲基蓝
,
紫外光源
侯亚奇
,
张弓
,
庄大明
,
吴敏生
无机材料学报
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜,利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌,并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比,呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相,晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果,同时具有很好的光催化性能稳定性.
关键词:
TiO2薄膜
,
mid-frequency AC magnetron sputtering
,
photocatalytic degradation
,
methylene blue
,
methyl orange
侯亚奇
,
张弓
,
庄大明
,
吴敏生
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.05.017
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比, 呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相, 晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果, 同时具有很好的光催化性能稳定性.
关键词:
TiO2薄膜
,
中频交流磁控溅射
,
光催化降解
,
亚甲基蓝
,
甲基橙
张西明
,
刘立
,
张新发
,
石道涵
,
陈东喜
,
张浩
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2004.05.015
对侯8-11井发生腐蚀开裂的套管进行化学成分分析、金相结构及残余应力分析.结果表明,该油井套管腐蚀开裂是由外向内发展的,其主要原因是腐蚀介质中的Cl-、HCO-3和H2S及表面残余应力共同作用引起的应力腐蚀.
关键词:
套管
,
腐蚀开裂
,
裂纹
,
应力腐蚀
程长征
,
程香
,
牛忠荣
,
周焕林
复合材料学报
利用一种数值方法分析压电材料切口尖端包括奇异应力场和奇异电位移场在内的双重奇异性.基于切口尖端的位移场按幂级数渐近展开假设,从应力平衡方程和Maxwell方程出发,推导出关于压电材料切口奇性指数的特征方程组,同时将切口的力学和电学边界条件转化为奇性指数和特征函数的组合表达,从而将压电材料双重奇性分析问题转化为在相应边界条件下微分方程组的特征值求解问题,采用插值矩阵法,可以一次性地计算出压电材料切口的各阶奇性指数.裂纹作为切口的特例,其尖端的电弹性奇性指数亦可以根据本法求出.
关键词:
压电材料
,
切口
,
裂纹
,
奇性指数
,
渐近展开