龚玉兰
,
吴小香
,
任世影
,
程莲萍
,
朱心昆
材料热处理学报
超细晶Cu-0.1at％ Ge合金在液氮温度下轧制后在150℃退火1h,分别研究了超细晶铜锗合金在退火前后的显微硬度及力学性能.结果表明,通过低温退火,超细晶铜锗合金的显微硬度和强度得到提高,而均匀伸长率下降.
关键词:
铜合金
,
液氮轧制
,
低温退火
,
力学性能
艾雨
,
蒋学兵
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153004.0566
通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验.通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生.为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2％降低至0.2％,为企业的稳定高效生产奠定了基础.
关键词:
残影
,
扭曲向列型
,
预倾角
,
面板
李铭
,
卢彦飞
,
袁刚
,
吴中毅
,
张涛
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153006.1032
针对 CT 系统在实际应用中出现的金属伪影问题，提出一种基于先验插值的金属伪影校正算法。文中通过预滤波、骨骼分割和软组织恢复步骤计算先验图像，并利用先验图像的正向投影对原始投影中的金属投影区进行插值校正。应用该算法对数值仿真图像和临床 CT 图像分别进行了校正重建实验。数值仿真实验表明，用提出算法校正的结果比线性插值金属伪影校正算法、归一化金属伪影校正算法校正的结果更接近理想体模。临床数据实验表明：该算法的重建结果有效抑制了金属伪影，清晰重建出金属边缘细节，极大地提高了重建图像的质量。
关键词:
金属伪影
,
先验图像
,
预滤波
,
软组织恢复
范恒亮
,
汤展峰
,
刘利萍
,
李静
,
黄静
,
刘岩龙
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163103.0270
影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大.本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析.发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110 nm,摩擦强度高于5.5N,m时无残影发生.通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影.通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10％,为企业高效生产奠定基础.
关键词:
残影
,
扭曲向列型
,
配向弱区
,
内部电场
尤磊
,
徐利璞
,
苏明
,
黄煜
上海金属
分析了十八辊轧机带材表面条状隐影产生的原因,在建立侧推力计算模型基础上,提出减小侧推力的方法.利用有限元方法对侧支撑辊、工作辊及带材的受力分布情况进行了分析,排除了作用在带材上不均匀分布的力导致的条状隐影.最后给出了该问题治理方案,效果理想.
关键词:
十八辊轧机
,
背衬轴承
,
条状阴影
,
侧推力
,
摩擦热
李永忠
,
纪伟丰
,
周炎宏
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112606.0733
影像残留显示现象存在于各类LCD中,大多为离子效应所引起.针对这一问题,分析了不同配向膜对自由离子电荷的吸附情况,以及选用合适的配向膜搭配不同液晶材料、盒内自由离子电荷的浓度情况等对残影显示的影响.实验发现,选用合适的配向膜,增加重配向时间,有利于消除残影现象；在一定配向膜基础上,选用低阈值液晶或选用添加抗静电剂液晶,更容易消除残影现象.不过,在实际运用中,重配向时间的增加会影响液晶陡度；低阈值液晶会使液晶陡度变差同时使响应速度变慢,且容易出现显示不均；抗静电剂液晶也会导致显示不均.因此在实际运用中,必须平衡以上各条件,才能在不影响其他性能前提下,更有效地改善残影现象,提高STN-LCD的显示质量.
关键词:
超扭曲向列相液晶显示器
,
残影显示
,
离子效应
刘晓那
,
宋勇志
,
徐长健
,
周波
,
马国靖
,
陈松飞
,
袁剑峰
,
林承武
,
邵喜斌
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142903.0317
利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究.一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC).而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块.因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及△VHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用.
关键词:
配向膜
,
电压保持率
,
残余电流
,
残影
材料保护
涂装的质量提高和生产成本的降低,可为机电产品制造领域创造附加值,还可以增加市场竞争力,所以人们对21世纪新型涂料开发、涂装作业方式改变、劳动条件改善、涂装工艺技术装备改进、开发等等都抱有很大的期望.全世界对公害和地球暖化等问题更加关心,环保问题是涂装行业最大的问题.涂料、涂装设备、涂装应用三位一体共同合作,是21世纪达到无公害涂装要取得成效的重要一步.我国机械制造大型企业在加强科研开发力量的同时不要忽视涂装技术这一重要领域.
关键词:
涂料
,
涂装
,
装备
,
开发
,
展望
