李传志
,
徐均琪
,
严一心
材料导报
利用非平衡磁控溅射技术溅射复合靶制备了一系列掺杂金属元素钛的类金刚石膜,并对薄膜的机械性能、沉积速率、电学性能及化学性能进行了测试,主要分析了影响机械性能、沉积速率的主要参数并确定了最佳工艺参数,同时阐述了其电学性能及化学性能结果.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
钛掺杂
,
复合靶
,
正交实验
蔡长龙
,
王季梅
,
弥谦
,
杭凌侠
,
严一心
,
徐均琪
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.009
薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.
关键词:
脉冲电弧
,
沉积速率
,
类金刚石薄膜
蔡长龙
,
王季梅
,
杭凌侠
,
严一心
,
徐均琪
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.03.003
采用脉冲真空电弧离子源镀制了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:基片温度、主回路电压、清洗时间、膜层厚度和脉冲频率等,分析了各种镀制参数对薄膜硬度的影响机理,找出了最佳镀制工艺参数.
关键词:
类金刚石薄膜
,
脉冲电弧
,
硬度
,
工艺参数
刘衡平
,
徐均琪
,
严一心
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.003
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究.试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小.靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
类金刚石
,
性能
,
结构
吴康
,
任静
,
蒋洪德
工程热物理学报
本文通过构建由一级动静叶组成的外流影响下的轮缘密封问题的实验和数值模型,针对燃气轮机透平转静轮盘间隙的封严与入侵问题开展了研究.其中第二部分主要关注不同封严结构的特性.结果表明:复杂的封严结构能够避免主流和腔室内部气体的直接接触,增大主流入侵的沿程阻力和削弱主流的切向速度分量的影响.在本文的实验条件下,径向封严所需要的最小密封流量相较于轴向封严能够减少50%以上.
关键词:
转静轮缘
,
轴向封严
,
径向封严
,
双封严结构
张娥
,
刘士余
,
孟洋
,
严达利
,
余大书
,
吕跃凯
,
李德军
人工晶体学报
通过第一性原理超晶胞方法研究了氧(O)原子在体心立方(BCC)难熔金属Nb,Ta,Mo,W中不同间隙位置的占位稳定性和原子结构以及电子结构.杂质形成能结果表明,O原子占据在Nb,Ta的八面体间隙最稳定;与之相反,O原子占据在Mo,W的四面体间隙位置最稳定.进一步的,O原子在BCC难熔金属的杂质形成能由低到高的顺序为Nb<Ta<Mo<W,这表明金属中溶解氧容易顺序为Nb>Ta>Mo>W.此外,分析了O对难熔金属Nb,Ta,Mo,W原子结构的影响.利用电子结构态密度解释了氧原子在Nb,Ta八面体间隙和Mo,W四面体间隙的最稳定性原因.
关键词:
氧原子
,
难熔金属
,
第一性原理
,
四/八面体间隙