H+辐照前后Mo涂层表面的XPS分析

功能材料, 2007, 38(2): 176-182.

1.四川大学,原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,四川,成都,610064

2.电子科技大学,光电信息学院,四川,成都,610054

3.四川大学,原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,四川,成都,610064

4.四川大学,原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,四川,成都,610064

5.四川大学,原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,四川,成都,610064

基金项目: 国家自然科学基金(59781002) 辐射物理及技术教育部重点实验室基金(K2005-02)

XPS characterization of the molybdenum films before and after H+ ion irradiation

对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的钼膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对钼膜的结合能的影响.分析结果表明,沉积的钼膜中除了单质钼外,还有部分钼的氧化物;H+辐照结果表明,H+的辐照使钼的结合能向低能方向偏移;钼的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.

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