测量了含钕及不含钕两种钛合金5621S于600-800℃在氧气中氧化条件下氧化膜的生长应力和于800℃氧化不同时间后氧化膜的残余应力。通过氧化膜的生长应力、热应力、残余应力大小的比较,表明Ti5621S合金中添加钕能降低氧化膜的生长应力。含钕及不含钕两种钛合金氧化膜的生长应力和热应力同数量级。于冷却过程中若钛合金5621S氧化膜发生显著破裂,由于应力充分释放,其残余应力反较含钕的钛合金5621S氧化膜的低。
The growth stresses of oxide scales formed on Ti5621S and Nd doped Ti5621S alloys during the oxidation at 600—800℃ in oxygen and the residual stresses of the oxide scale formed at 800℃ at diffierent time have been measured using the one side oxidation ben
参考文献
| [1] | |
| [2] | |
| [3] | |
| [4] | |
| [5] | |
| [6] |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%