磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究

功能材料, 2004, 35(z1): 790-792.

磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究

张晋敏 ^1, , 郜小勇 ^2, , 李晶 ^3, , 周鹏 ^4, , 郑玉祥 ^5, , 王松有 ^6, , 张冬青 ^7, , 陈良尧 ^8,

1.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433;贵州大学,电子科学系,贵州,贵阳,550025

2.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

3.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

4.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

5.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

6.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

7.贵州大学,电子科学系,贵州,贵阳,550025

8.复旦大学,光科学与工程系,上海,200433

基金项目: 贵州省教育厅自然科学基金(2003315) 贵州省科技厅自然科学基金(20033059)

关键词：放电等离子烧结(SPS) , 磁光薄膜 , 椭偏光谱 , 磁光Kerr效应

The optical and magneto-optical properties of TbFeCo films prepared by magnetron sputtering systems

采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光Kerr谱仪,在室温下分别测量了TbFeCo薄膜的极向Kerr回线和横向Kerr回线,发现所制备TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.

参考文献

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