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通过离子镀方法,在难熔金属Mo表面成功制得Ir涂层,制得的Ir涂层呈亮银白色且表面均匀,并分别采用X射线衍射及扫描电镜技术对其结构和微观形貌进行分析.结果显示:涂层均匀致密呈山丘状,无明显缺陷,Ir涂层呈多晶态,并沿(111)晶面优先生长,Ir涂层与基材结合良好,铱涂层抗氧化性能良好.

参考文献

[1] 华云峰,陈照峰,张立同,成来飞.MOCVD Ir薄膜的制备与沉积效果分析[J].稀有金属材料与工程,2005(01):139-142.
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