研究了玻璃基体上化学沉积Ni-P合金的工艺条件,讨论了碱性化学镀镍过程中硫酸镍、次磷酸钠和柠檬酸钠的质量浓度,温度以及pH对镀层沉积速率的影响,获得较佳工艺条件如下:硫酸镍30 g/L,次磷酸钠25 g/L,柠檬酸钠10g/L,温度45 ℃,pH=9.在此条件下获得的镍-磷合金镀层含磷3.2%,属于低磷镀层.采用氯化钯滴定法测得镀液的稳定时间达到30min.
参考文献
[1] | 姜晓霞;沈伟.化学镀理论及实践[M].北京:国防工业出版社,2000 |
[2] | 李宁;袁国伟;黎德育.化学镀镍基合金理论与技术[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2002 |
[3] | 闫洪.现代化学镀镍和复合镀新技术[M].北京:国防工业出版社,1999 |
[4] | PARKER K .The formulation of electroless nickel-phosphorus plating baths[J].Plating and Surface Finishing,1987,74(02):60-65. |
[5] | <表面处理工艺手册>编审委员会.表面处理工艺手册[M].上海:上海科学技术出版社,1994 |
[6] | 伍学高;李铭华;黄渭成.化学镀技术[M].成都:四川科学技术出版社,1985 |
[7] | 张拥乱,朱有兰,王伟旬.聚丙烯塑料低温化学镀Ni-P工艺的研究[J].材料保护,2004(03):36-37. |
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