Ar+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响

稀有金属材料与工程, 2010, 39(5): 889-891.

Ar+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响

张厚亮 ^1, , 吕学超 ^2, , 任大鹏 ^3, , 李嵘 ^4, , 赖新春 ^5, , 赵天明 ^6,

1.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

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关键词： Ar+离子束 , 反应溅射 , 刻蚀 , U薄膜 , 表面粗糙度

Influence of Ar+ Ion Beam Sputter on Surface Roughness of Uranium Film

采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对.结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5 keV的Ar+离子束较1.0 keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反.Ar+离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工.

参考文献

[1]	徐滨士.材料表面工程[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2005:233.
[2]	顾文琪.聚焦离子束微纳加工技术[M].Beijing:Beijing University of Technology Press,2006:35.

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