氧化钨电致变色薄膜的XPS分析

稀有金属材料与工程, 2008, 37(7): 1213-1216.

氧化钨电致变色薄膜的XPS分析

李海霞 ^1, , 唐武 ^2, , 翁小龙 ^3, , 邓龙江 ^4, , 孔占兴 ^5,

1.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054

2.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054

3.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054

4.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054

5.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054

基金项目: 国家自然科学基金资助(50601005)

关键词： WOx薄膜 , 电致变色 , 磁控溅射

XPS Analyses on WOx Electrochromic Films

采用射频磁控溅射工艺,在柔性PET衬底上低温制备电致变色WOx/ITO/PET多层薄膜;利用X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的着、退色态中W元素的价态以及O元素的化合环境.结果表明:WOx薄膜着色态中存在W6+和W5+的混合价态,而在退色态中W元素的化合价仅为W6+;钨离子的不同价态和氧离子的不同化合环境的变化与WOx薄膜的电致变色机制密切相关.

参考文献

[1]	Tien-Syh Yang;Zhong-Ron Lin et al.[J].Applied Surface Science,2005,252:2029.
[2]	Granqvist C G .[J].Journal of the European Ceramic Society,2005,25:2907.
[3]	Brigouleix C;Topart P et al.[J].Electrochimica Acta,2001,46:1931.
[4]	Washizu E.;Yamamoto A.;Abe Y.;Kawamura M.;Sasaki K. .Optical and electrochromic properties of RF reactively sputtered WO3 filMS[J].Solid state ionics,2003(1/4):175-180.
[5]	Sung Jong Yoo;Ju Wan Lim;Yung-Eun Sung et al.[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2006,90:477.
[6]	Avendano E;Berggren L;Niklasson GA;Granqvist CG;Azens A .Electrochromic materials and devices: Brief survey and new data on optical absorption in tungsten oxide and nickel oxide films[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2006(1):30-36.
[7]	林坚,林永钟.混合氧化物掺杂电致变色[J].光学仪器,2001(05):215-220.
[8]	Wong H Y;Ong C W et al.[J].Thin Solid Films,2000,376:131.
[9]	Andriy Romanyuk et al.[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2006,90:1945.
[10]	王晓光 .[J].东北大学学报,1997,18(03):321.

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