正电子湮灭术在测量金刚石膜空位型缺陷中的应用

材料导报, 2000, 14(6): 30-32.

正电子湮灭术在测量金刚石膜空位型缺陷中的应用

郭忠诚 ^1, , 陈星明 ^2, , 方亮 ^3, , 王万录 ^4, , 廖克俊 ^5,

1.重庆大学理学院应用物理系

2.重庆大学机械学院制造工程研究所,重庆,400044

3.重庆大学理学院应用物理系

5.重庆大学理学院应用物理系

基金项目: 国家自然科学基金

关键词：金刚石薄膜 , 正电子湮灭 , 空位 , 缺陷

Application of Positron Annihilation in Characterizing Vacancy-type Defects in Diamond Films

对正电子湮灭术(PAS)应用于金刚石薄膜中检测空位型缺陷的研究现状进行了综述,对由正电子寿命谱、多普勒宽化因子等数据得到空位型缺陷的浓度与大小等信息的方法进行了归纳与总结,并对正电子技术研究金刚石膜缺陷尚需注意的一些问题进行了初步分析讨论.

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