聚酰亚胺/LTNO复合膜介电性能及其影响因素

高分子材料科学与工程, 2009, 25(2): 73-76.

聚酰亚胺/LTNO复合膜介电性能及其影响因素

刘卫东 ^1, , 朱宝库 ^2, , 谢曙辉 ^3, , 徐志康 ^4,

1.浙江师范大学物理化学研究所,浙江省固体表面反应化学重点实验室,浙江,金华,321004;浙江大学高分子科学研究所,高分子合成与功能构造教育部重点实验室,浙江,杭州,310027

2.浙江大学高分子科学研究所,高分子合成与功能构造教育部重点实验室,浙江,杭州,310027

3.浙江大学高分子科学研究所,高分子合成与功能构造教育部重点实验室,浙江,杭州,310027

4.浙江大学高分子科学研究所,高分子合成与功能构造教育部重点实验室,浙江,杭州,310027

基金项目: 浙江省教育厅资助项目(20071157) 国家自然科学基金(50103010)

关键词：聚酰亚胺 , Li和Ti改性的氧化镍 , 复合膜 , 介电性能

Dielectric Properties of Polyimide/LTNO Composites and Its Influence Factors

采用溶胶-凝胶法合成出Li和Ti改性的氧化镍(LTNO)粒子,并通过前体溶液共混法首先制备聚酰胺酸/LTNO前体膜,再经亚胺化得到高介电常数聚酰亚胺/LTNO复合膜.研究发现,复合膜的介电性能可以通过调节LTNO的含量以及Li和Ti在LTNO中的比例来进行调控.选用按Li、Ni和Ti的摩尔百分比为0.30:0.68:0.02制备的LTNO粒子做填料,当其体积分数为0.4时,复合膜在100 Hz电场中的介电常数可以达到570.

参考文献

[1]	邢光建,杨志民,杨剑,毛昌辉,杜军.高介电性能的陶瓷-聚合物复合材料的研究现状[J].高分子材料科学与工程,2005(03):54-58.
[2]	朱宝库,谢曙辉,徐又一,徐志康.高介电常数聚酰亚胺/钛酸钡复合膜的制备与性能研究[J].功能材料,2005(04):546-548,551.
[3]	Hsiao SH.;Chen YJ. .Structure-property study of polyimides derived from PMDA and BPDA dianhydrides with structurally different diamines[J].European Polymer Journal,2002(4):815-828.
[4]	Stephen H. Foulger .Reduced Percolation Thresholds of Immiscible Conductive Blends[J].Journal of Polymer Science, Part B. Polymer Physics,1999(15):1899-1910.
[5]	W. Tsai;R.J. Carter;H. Nohira;M. Caymax;T. Conard;V. Cosnier;S. DeGendt;M. Heyns;J. Petry;O. Richard;W. Vandervorst;E. Young;C. Zhao;J. Maes;M. Tuominen;W.H. Schulte;E. Garfunkel;T. Gustafsson .Surface preparation and interfacial stability of high-k dielectrics deposited by atomic layer chemical vapor deposition[J].Microelectronic engineering,2003(3):259-272.

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