微弧氧化α-Al2O3陶瓷膜生长过程分析

稀有金属材料与工程, 2004, 33(6): 651-654.

微弧氧化α-Al2O3陶瓷膜生长过程分析

辛世刚 ^1, , 姜兆华 ^2, , 吴晓宏 ^3, , 孙学通 ^4, , 赵连城 ^5,

1.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001

2.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001

3.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001

4.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001

5.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001

基金项目: 哈尔滨工业大学校科研和教改项目(HITMD2001,23) 国家自然科学基金(50171026)

关键词：铝合金 , 微等离子体氧化 , 陶瓷涂层

The Analysis of Growth Characteristic of Alumina Coatings by Micro-Plasma Oxidation

在交流条件下利用微等离子体氧化技术合成了氧化铝陶瓷涂层.XRD分析结果显示,涂层中α-Al2O3相与γ-Al2O3相的含量随反应时间而变化.氧化2.5 h后可以得到由单一的α-Al2O3相组成的涂层.陶瓷涂层厚度的生长速率大约为0.7μm/min;在135 min之后,涂层的厚度基本不变.氧化最初的15 min之内,涂层的表面密度仅为0.088 mg/cm2,然后表面密度增大.在氧化15 min～60 min之内,表面密度(y)与氧化时间呈直线关系.在氧化60 min之后,y的增长速率逐渐减小.

参考文献

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