真空弧源沉积类金刚石薄膜及其性能研究

功能材料, 2003, 34(2): 229-230.

真空弧源沉积类金刚石薄膜及其性能研究

冷永祥 ^1, , 黄楠 ^2, , 孙鸿 ^3, , 陈俊英 ^4, , 万国江 ^5, , 王进 ^6,

1.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

2.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

3.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

4.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

5.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

6.西南交通大学,材料学院生物材料及表面工程研究所,四川,成都,610031

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(G199064706) 国家自然科学基金(NSFC39870199) 国家高技术研究发展计划(863计划)(102-12-09-1)

关键词：类金刚石 , 血液相容性 , 纳米硬度 , 耐磨性

The properties of DLC films synthesized by vacuum arc source deposition

采用真空弧源沉积技术在钛合金及Si(100)表面合成DLC薄膜,通入不同的氩气,控制DLC薄膜中的SP3/SP2比值.研究表明,薄膜硬度可达96GPa,随着氩气流量的增加,薄膜的硬度先增加,后有明显降低.随着氩气流量的增加,类金刚石薄膜中,SP2键增加,SP3键减少,而血液相容性明显提高.DLC薄膜具有优异的耐磨性,摩擦系数低,与钛合金基体结合牢固.

参考文献

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[6]	Leng YX.;Zeng ZM.;Tian XB.;Yang P.;Huang N.;Zhou ZR.;Chu PK.;Chen JY. .Properties of titanium oxide biomaterials synthesized by titanium plasma immersion ion implantation and reactive ion oxidation[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2000(0):573-577.
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