AZ31镁合金沉积Mg-Cu-Y非晶薄膜的结构与性能

材料热处理学报, 2009, 30(2): 125-128.

AZ31镁合金沉积Mg-Cu-Y非晶薄膜的结构与性能

郭光伟 ^1, , 王海燕 ^2, , 唐光泽 ^3, , 马欣新 ^4,

1.哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001;大庆石油学院机械科学与工程学院,黑龙江,大庆,163318

2.哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

3.哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

4.哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

基金项目: 教育部新世纪优秀人才支持计划(DACZ98504402) 国家重点基础研究发展规划(973计划)(2007CB607602)

关键词： Mg-Cu-Y薄膜 , 共溅射沉积 , 硬度 , 摩擦磨损

Structure and properties of Mg-Cu-Y amorphous film deposited on AZ31 alloy

采用非平衡磁控溅射方法在AZ31镁合金表面沉积Mg-Cu-Y薄膜,以纯铜和Mg65 Cu25 Y10合金作为溅射靶材,选则Mg65 Cu25 Y10单靶、Mg65 Cu25 Y10靶和铜靶双靶两种方式分别进行溅射沉积.利用XRD、AFM、SEM分析了膜层结构与表面形貌,纳米压痕法、球盘式摩擦磨损测试研究了膜层的硬度和耐磨性.结果表明,Mg65 Cu25 Y10单靶溅射得到的薄膜为完全非晶态结构,而双靶共溅获得的膜层中出现含有铜的晶态组织.随着膜层中Cu含量的增加,纳米硬度较非晶态膜层有所降低,但同时耐磨性提高.两类不同结构薄膜相比较,Mg65 Cu25 Y10单靶溅射沉积的非晶膜层硬度最高,达到12GPa.用磨损量评价了基体与膜层的耐磨性,包含Cu结晶相的双靶共溅薄膜具有较好的耐磨性能.

参考文献

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