本文叙述了大直径硅单晶生长、杂质缺陷行为、表面质量控制及硅基材料的研究现状,讨论了应变硅与绝缘体上硅(SOI)相结合的发展趋势,展望了纳米集成电路用大直径硅及硅基材料的技术经济前景.
参考文献
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[2] | 屠海令.硅及硅基半导体材料中杂质缺陷和表面的研究[J].中国工程科学,2000(01):7-17. |
[3] | C G Van de Walle .[J].Physical Review,1989,39:1871. |
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