采用射频磁控溅射在玻璃基片上制备了参数不同的钛膜,并选取钛膜在HF水溶液中恒压阳极氧化得到TiO2纳米管阵列.结果表明:溅射压强从0.1 Pa升至1.5 Pa,薄膜致密度显著下降,溅射压强以0.5 Pa为宜;溅射功率为105 w,溅射速率约为0.23 nm/s,溅射时间延长,薄膜厚度线性增加;衬底预热有利于提高膜的致密度和结晶性能,在衬底温度低于300℃时,钛晶粒在(002)晶面择优生长,当升温到更高温度时,(010)峰、(011)峰出现且强度升高,而(002)峰的强度降低:在室温下,当溅射功率小于150 W时,薄膜具有较高密度,晶粒生长各向异性,增至167 W时,钛晶粒在(002)晶面择优生长,呈明显柱状六方晶表面形态,且晶界有明显孔洞存在,致密度下降.将溅射功率为150 W,工作压力为0.5 Pa,溅射时间为1 h条件下所制备的钛膜在氧化电压为10 V、电解液为0.5%(质量分数,下同)HF水溶液中室温阳极氧化,得到高规整度的TiO2纳米管阵列.
参考文献
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