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采用微波CVD系统研究了Ar-CO2-CH-4气氛中不同工艺条件对超纳米金刚石薄膜形貌的影响.结果表明:以Ar-CO2-CH4为反应气源,可制备出晶粒尺寸为20 nm左右、表面粗糙度在16 nm以下,厚度达5μm以上,结构致密的超纳米金刚石薄膜;在Ar-Ct4组分中添加CO2可明显提高金刚石膜的沉积速率,但采用该气源组分能够得到致密金刚石膜的气源组成范围很窄.其原因和控制方式有待深入研究.

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