热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究

功能材料, 2004, 35(z1): 3181-3183.

热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究

荣延栋 ^1, , 阴生毅 ^2, , 胡跃辉 ^3, , 吴越颖 ^4, , 朱秀红 ^5, , 周怀恩 ^6, , 张文理 ^7, , 邓金祥 ^8, , 陈光华 ^9,

1.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

2.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

3.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

4.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

5.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

6.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

7.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

8.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

9.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(G2000028201-1)

关键词：非晶硅 , 红外 , 光致衰退

Ivestigation of infrared spectra and light-induced degradation of the a-Si:H film synthesized by ECR-CVD assisted hot-wire

采用热丝辅助MWECR-CVD系统制备出了a-Si:H薄膜.应用傅立叶红外仪测量了薄膜的红外谱,用共面蒸铝电极法测量了薄膜的光电导.通过比较A样品(加入热丝)和B样品(未加热丝),得出在热丝辅助MWECR-CVD系统制备非晶硅薄膜过程中,热丝的光照对薄膜的抗衰退起到了关键作用,用该系统制备非晶硅薄膜,大大降低了薄膜中的总氢含量,提高了薄膜的稳定性,同时,Si-H键合体的摇摆模发生了红移.

参考文献

[1]	Matsumoto et al.Growth Diamond Particles from Methance-hydrogen Gas[J].Journal of Materials Science,1982,17(11):3106-3112.
[2]	Bonnot B M .Synthesis of Diamond Thin Films by Hot-Filament-Assisted Chemical Vapour Deposition[J].Thin Solid Films,1990,185(01):111-121.
[3]	Doyle J;Roerlson R;Lin G H et al.Production of High-Quality Amorphous Silion Films by Evaporation Silane Surface Decomposition[J].Journal of Applied Physics,1988,64(06):3215-3223.
[4]	Zedlitz R;essler F K;Heintze M .Deposition of a-Si:H with the Hot Wire Technique[J].Journal of Non-Crystalline Solids,1993,164:83-86.
[5]	姚若河;林揆训.辉光放电的质谱研究[A].南昌,1991:287-289.
[6]	陈国,郭晓旭,朱美芳,孙景兰,许怀哲,韩一琴.热丝法制备纳米晶硅薄膜结构及沉积机制的研究[J].物理学报,1997(10):2015-2022.
[7]	Nomoto K et al.Role of Hydrogen Atoms in the Formation Process of Hydrogenated Microcrystalline Silicon[J].Japanese Journal of Applied Physics,1990,29(08):L1372-L1375.
[8]	Kaneko T et al.Crystalline Fraction of Microcrystalline Silicon Films Prepared by Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition Using Pulsed Silane Flow[J].Japanese Journal of Applied Physics,1993,32(11A):4907-4911.
[9]	Nakayama Y et al.High-Rate Deposition of a-Si:H Film Using the Decomposition of Mono-silane[J].Japanese Journal of Applied Physics,1982,21(10):L604-L606.
[10]	薛华;于积贞;李永忠 .掺氢非晶硅薄膜材料光稳定性的研究[J].西北民族学院学报(自然科学版),2000,21(01):14-16.
[11]	Yamanaka M;Hayashi Y;Sakata I .Effect of Visible-light Illumination on the Growing Surface of an a-Si:H Film in Plasma Decomposition of SiH4[J].Journal of Applied Physics,1990,29(02):217-220.

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网