二氧化铪(HfO2)功能陶瓷薄膜的自组装制备

功能材料, 2009, 40(1): 107-111.

二氧化铪(HfO2)功能陶瓷薄膜的自组装制备

贺中亮 ^1, , 苗鸿雁 ^2, , 谈国强 ^3, , 刘剑 ^4, , 夏傲 ^5, , 娄晶晶 ^6,

1.陕西科技大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710021

2.陕西科技大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710021

3.陕西科技大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710021

4.陕西科技大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710021

5.陕西科技大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710021

6.河南大学法学院,河南,开封,475001

基金项目: 国家自然科学基金(50672055) 国家科技支撑计划(2006BAF02A28)

关键词：薄膜 , 自组装单层膜 , HfO2

Self-assembled monolayers preparation of HfO2 thin film

利用自组装单层膜技术,在玻璃基板上生长十八烷基三氯硅烷(OTS)单分子膜层,以Hf(SO4)2·4H2O和HCl配制HfO2前驱液,通过液相沉积在硅烷的功能性官能团上诱导生成二氧化铪薄膜.研究了紫外光照射对OTS单分子层的影响,通过接触角测试仪、AFM、SEM及XRD等手段对膜材料的表面形貌和结构进行了研究分析.结果表明,利用自组装单层法成功制备出HfO2晶态薄膜,呈立方型的HfO2,无其它杂相,薄膜表面均一.

参考文献

[1]	田书凤,彭英才,范志东,张弘.高k值HfO2栅介质材料电学特性的研究进展[J].材料导报,2007(01):22-26.
[2]	何刚等.[J].功能陶瓷,2004,35:1433-1435.
[3]	邱成军,曹茂盛,朱静,杨慧静.纳米薄膜材料的研究进展[J].材料科学与工程,2001(04):132-137.
[4]	Gao Yanfeng;Koumoto K .[J].Crystal Growth and Design,2005,5(05):1983-2017.
[5]	Smith R K;Lewis P A;Weiss P S .[J].Progress in Surface Science,2004,75:1.
[6]	Liu J;Kim A Y;Wang L Q et al.[J].Advances in Colloid and Interface Science,1996,69:131.
[7]	Schreiber F .[J].Progress in Surface Science,2000,65:151.
[8]	葛琦,张俊英,杨春,王天民,郑权.TiO2静电自组装薄膜在不同光源下的杀菌性能[J].稀有金属材料与工程,2005(10):1642-1645.

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Self-assembled monolayers preparation of HfO2 thin film

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