用真空磁控溅射技术,在Q235钢的基底上沉积(Zr,Ti)N复合镀层,改变溅射工艺参数(温度、Ar/N2流量比、基体偏压)制成8个镀层耐蚀性对比试样,用PS-268A型电化学测试仪,在3.5%的NaCl电解质溶液中腐蚀30~60 min,用极化曲线和Tafel直线外推法,确定各试样的耐蚀性的差异.结果表明,溅射工艺参数对镀层的耐蚀性影响较大.从耐蚀性方面考虑,推荐工艺参数为:溅射温度350℃,At/N2流量比60/30(SCCM),基体偏压120 V.
参考文献
[1] | 黄佳木,徐成俊,王亚平.室温磁控溅射制备(Ti,Zr)N薄膜及其性能研究[J].材料科学与工程学报,2005(05):517-520. |
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