低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比.目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高.通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3NxOy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性.表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义.
参考文献
| [1] | 格雷瑟;董强.大面积镀膜玻璃[M].上海:上海交通大学出版社,2006 |
| [2] | 刘志海.低辐射玻璃及其应用[M].北京:化学工业出版社,2006 |
| [3] | 王世忠.Low-E玻璃对建筑节能的贡献[J].玻璃,2012(06):25-29. |
| [4] | 郭明.浅析磁控溅射镀膜玻璃膜层的形成[J].建筑玻璃与工业玻璃,2006(05):10-13. |
| [5] | 张广英,吴爱民,秦福文,姜辛.玻璃衬底沉积氮化硅薄膜性能研究[J].哈尔滨工程大学学报,2009(11):1331-1334. |
| [6] | 明亮,尹传强,魏秀琴,周浪.晶体硅微粉气相氮化及氮氧化条件[J].材料科学与工程学报,2010(03):416-420,433. |
| [7] | 葛其明,刘学建,黄智勇,黄莉萍.LPCVD氮化硅薄膜的化学组成[J].材料科学与工程学报,2006(02):192-195. |
| [8] | 孟祥森,袁骏,马青松,葛曼珍,杨辉.氮氧化硅薄膜制备方法的研究[J].材料科学与工程,1999(04):10-13. |
| [9] | 张宗波,罗永明,徐彩虹.氮氧化硅薄膜的研究进展[J].材料导报,2009(21):110-114. |
| [10] | 王承遇.玻璃表面处理技术[M].北京:化学工业出版社,2004:201-203. |
| [11] | 李云奇.真空镀膜[M].北京:化学工业出版社,2011:183. |
| [12] | 李云奇.真空镀膜[M].北京:化学工业出版社,2011:152. |
| [13] | 李云奇.真空镀膜[M].北京:化学工业出版社,2011:273-275. |
| [14] | 马眷荣.建筑玻璃应用技术[M].北京:化学工业出版社,2004:52. |
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