氮流量比对直流反应磁控溅射制备氮化铬涂层组织和性能的影响

机械工程材料, 2010, 34(7): 34-37.

1.东南大学材料科学与工程学院,江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室,南京,211189

2.东南大学材料科学与工程学院,江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室,南京,211189

3.东南大学材料科学与工程学院,江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室,南京,211189

4.东南大学材料科学与工程学院,江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室,南京,211189

基金项目: 国家科技支撑计划资助项目(2007BAE15B05)

Effect of N2 Flow Rate on Structure and Property of CrN Coatings Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering

采用直流磁控溅射法制备氮化铬涂层,研究了氮流量比对涂层相结构、表面形貌和硬度和涂层结合力的影响.结果表明:当氮流量比在30%～100%变化时,涂层主要由CrN相构成;随氮流量比增加,涂层晶粒形貌由三角锥转变为三角锥与球状共存,涂层变得致密,硬度得到提高;氮流量比对涂层结合力影响不大.

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