采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi2O3陶瓷靶,利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)基体上制备了氧化铋薄膜,研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响,并探讨了退火温度(350～550 C)对薄膜的物相和表面形貌的影响.结果表明:随着氧分压从0增大到0.36 Pa,薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi2O3相；随着退火温度的升高,薄膜中出现了新的物相,仍为多相结构,不同相的衍射峰半高宽变化有增有减；薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大.
参考文献
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