直接氮化法制备Si3N4粉体过程研究

稀有金属材料与工程, 2008, 37(z1): 378-381.

直接氮化法制备Si3N4粉体过程研究

刘松喆 ^1, , 季惠明 ^2, , 梁辉 ^3, , 马艳红 ^4,

1.天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072

2.天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072

3.天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072

4.天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室,天津,300072

关键词： Si3N4粉体 , 直接氮化法 , 催化剂Fe , 工艺条件

Preparation of Si3N4 Powders by the Direct Nitridation of Silicon

采用直接氮化的工艺方法,以Si粉为初始原料,采用Fe粉为催化剂,在高温下直接进行氮化,制备了Si3N4粉体.着重讨论了催化剂含量和氮化工艺条件对粉体的氮化率、粒径、形貌和相含量等方面的影响.实验结果表明:催化剂含量,球磨工艺,烧结制度是影响Si3N4粉体最终性能的3个主要因素,并且在掺杂Fe为0.5%,球磨时间为2h,采用分阶段保温升温的方法,在氮化温度为1400～1350℃下氮化2～3 h,制备了氮化率95%左右,α相含量接近90%,形状为等轴状的Si3N4粉体.

参考文献

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