欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

在VGF法生长GaAs晶体的过程中固液界面凹向晶体,很容易在坩埚圆锥面处生长多晶.本文采用专业晶体生长模拟软件CrysVUn对实验温场进行了计算机模拟并提出改进方案,把底加热器取消并在坩埚底部加入氦气冷源,底部结构类似于热交换法系统.这样改变热场结构,得到凸向熔体的固液界面.

参考文献

[1] 蒋荣华,肖顺珍.砷化镓材料的发展与前景[J].世界有色金属,2002(08):7-13.
[2] 谈惠祖,杜立新,赵福川.垂直梯度凝固法生长半绝缘GaAs单晶的工艺研究[J].功能材料与器件学报,2002(01):73-76.
[3] Amon J.;Muller G.;Berwian P. .Computer-assisted growth of low-EPD GaAs with 3 '' diameter by the vertical gradient-freeze technique[J].Journal of Crystal Growth,1999(Pt.1):361-366.
[4] Kurz M.;Muller G. .Control of thermal conditions during crystal growth by inverse modeling[J].Journal of Crystal Growth,2000(1/4):341-349.
[5] Backofen R.;Muller G.;Kurz M. .Process modeling of the industrial VGF growth process using the software package CrysVUN plus[J].Journal of Crystal Growth,2000(1/4):202-206.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%