对BMIC+BMIBF4复合离子液体中利用恒电流电沉积的方法在Mo基体上制备Ir层进行了研究.利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对Ir层的表面形貌和成分进行了分析.结果表明:在BMIC+BMIBF4+EG复合体系中可以电沉积制备平整致密的单质Ir层且影响因素较多,如温度、电流密度、主盐浓度及沉积时间等,且这些因素可调节的范围比较窄.通过对比各因素间的影响得出,在此复合体系中恒电流电沉积制备Ir层的优化工艺为IrCl3浓度50g/L,电流密度1.0 mA/cm2,沉积温度90℃,沉积时间20h.
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