辉光放电质谱法测定超高纯铜中痕量杂质的记忆效应研究

冶金分析 , 2011, 31(9): 22-23.

辉光放电质谱法测定超高纯铜中痕量杂质的记忆效应研究

^1,

1.Nu仪器公司,雷克瑟姆LL13 9XS,英国

Study on the effect of memory for the determination of trace impurity in ultra high purity copper by glow discharge mass spectrometry

随着高纯材料的需求日益增大,分析这种材料的辉光放电质谱技术也在不断的完善,其中一个困扰业界的问题就是记忆效应.本文采用辉光放电质谱法在分析锌样品前后分别两次测定了超高纯铜样品中10种痕量杂质(Mg、Al、Cr、Mn、Fe、Ni、Zn、As、Hg、Pb).结果表明,两次测定结果基本一致,尤其是两次测定所得痕量锌含量结果一致,说明改变样品基体时,采用只清洗辉光放电池的方法可消除记忆效应.

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辉光放电质谱法测定超高纯铜中痕量杂质的记忆效应研究

Study on the effect of memory for the determination of trace impurity in ultra high purity copper by glow discharge mass spectrometry

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