采用射频磁控溅射法在40Cr基体上制备了非晶态Al2O3薄膜,并研究了工艺参数(溅射功率,工作气压,溅射时间)、预处理工艺以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用射频溅射法,在功率为250W、工作气压为5.0Pa、时间为3h条件下制备的薄膜结合力最好.基体经过腐蚀预处理和加入镍磷中间层均能改善膜基结合力,后者效果更显著.
参考文献
| [1] | 廖国进,闻立时,巴德纯,刘斯明.中频反应磁控溅射Al2O3薄膜的光学性质[J].东北大学学报（自然科学版）,2007(05):687-691. |
| [2] | 李夕金,程国安,薛文斌,郑瑞廷,田华,程云君.TiAl合金表面阴极微弧制备的Al2O3膜结构与性能[J].粉末冶金材料科学与工程,2009(02):115-118. |
| [3] | 罗小秋,黄志荣,孙启凤,顾军,程秀玲.HP40钢表面沉积Al2O3薄膜及其抗结焦性能[J].腐蚀与防护,2008(03):140-142. |
| [4] | Kelly P J;Arnell R D .[J].Vacuum,2000,56:159-172. |
| [5] | P. J. Kelly;J. Hisek;Y. Zhou .Advanced coatings through pulsed magnetron sputtering[J].Surface Engineering,2004(3):157-162. |
| [6] | 郑伟涛.薄膜材料与薄膜技术[M].北京:化学工业出版社,2004 |
| [7] | 赵峰,杨艳丽.CVD技术的应用与进展[J].热处理,2009(04):7-10. |
| [8] | 胡光辉.溶胶-凝胶技术研究及其应用[J].重庆工业高等专科学校学报,2005(01):26-29. |
| [9] | 李学丹;万学英;姜祥棋.真空沉积技术[M].杭州:浙江大学出版社,1994 |
| [10] | 李宁.化学镀实用技术[M].北京:化学工业出版社,2004:476-477. |
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