应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜,在模拟口腔环境溶液中测定了其自腐蚀电位、腐蚀电流密度、极化电阻、极化曲线,并用未经表面镀膜的铁铬钼合金进行了对比.结果表明:经TiN薄膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高;当氮气流量为1.5cm3/min,溅射时间为4 h,得到的膜厚为2 μm,此时TiN膜在口腔溶液中的耐腐蚀性能最好.
参考文献
| [1] | 柳襄怀,李昌荣,郑志宏,杨根庆,王曦,邹世昌.离子束薄膜合成及其应用[J].功能材料与器件学报,2001(02):113-115. |
| [2] | 费跃.磁控溅射镀氮化钛工艺分析[J].真空,1990(04):52. |
| [3] | 李晓青.氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究[J].真空,1990(03):1. |
| [4] | 刘雄飞,涂国辉.工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究[J].真空科学与技术学报,1999(03):225. |
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