射频磁控溅射法制备氧化镱薄膜

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基金项目: 航空基础科学基金(59493300)

Deposition Ytterbium Oxide Thin Films by RF Magnetron Sputtering

利用射频磁控溅射法,以高纯氧化镱(Yb2O3)为靶材,成功地制备出了Yb2O3薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究.结果表明,制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb2O3化合物;薄膜为具有立方结构的多晶体;在波长0.8 μm以上薄膜的折射率约为1.66,吸收很小.

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