通过插层技术合成了硫脲壳聚糖/蒙脱土(Cts-TU/MMT)纳米中间体,利用XRD和FT-IR对合成的硫脲壳聚糖/蒙脱土纳米中间体进行了表征,结果表明硫脲壳聚糖已经进入了蒙脱土层间,其层间距达到3.529nm;通过抑菌动力学实验评价了硫脲壳聚糖/蒙脱土纳米中间体对大肠杆菌的抑菌性能,预示了其在生物医药领域的潜在应用性.
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