RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用

电镀与涂饰 , 2016, 35(20): 1070-1073.

RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用

翟荣安 ^1, , 缪灿锋 ^2, , 魏顶 ^3, , 储成智 ^4, , 汝长海 ^5,

1.苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心,江苏苏州,215123

2.苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心,江苏苏州,215123

3.苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心,江苏苏州,215123

4.苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心,江苏苏州,215123

5.苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心,江苏苏州215123;苏州大学苏州纳米科技协同创新中心,江苏苏州215123

基金项目: 欧盟第七框架国际合作基金(PIRSES-GA-2013-612641). 国家自然科学基金仪器重大专项(61327811) 苏州市科学发展计划纳米技术专项(ZXG201433)

关键词：正性光刻胶 , 压电雾化喷涂 , 平均厚度 , 均匀性 , 抛光硅片 , 方形结构

Process for piezoelectric spray coating of RZJ-304 photoresist and its application

Keywords： positive photoresist , piezoelectric spraying , average thickness , uniformity , polished silicon wafer , square structure

在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数.以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电雾化喷涂法和离心旋转法涂胶,并进行图案光刻,结果表明压电雾化喷涂法可以在非圆形形貌上得到清晰完整的图案,克服了传统离心旋转法无法在非圆形面上涂胶的缺陷,验证了压电雾化喷涂法在非圆形形貌应用中的可行性.

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