配制有机非质子极性溶剂EtMgCl/THF溶液作为镁电沉积电解液,采用循环伏安法对镁薄膜在基体铜上的初始电化学沉积行为做了研究,结果表明,镁薄膜的电沉积行为遵循形核/生长机制；采用直流沉积法,分别改变电解液浓度和电流密度,得到光亮致密均匀的镁镀层;利用SEM和XRD分别对镀层表面形貌和相组成进行了表征；采用脉冲电沉积法制得金属镁镀层,与恒流电沉积相比,脉冲电沉积能够细化晶粒,并存在着[002]面的择优取向.
参考文献
| [1] | 刘庆,陆文雄,印仁和.电化学法制备纳米材料的研究现状[J].材料保护,2004(02):33-36. |
| [2] | 屠振密;李宁;胡会利.Electroplating Nanocrystalline Material Technology(电沉积纳米晶材科技术)[M].北京:国防工业出版社,2008:21. |
| [3] | 张海朗,王文继,张锁江.镁电沉积研究评述[J].化学研究与应用,2003(03):293-297. |
| [4] | Devos O;Jakab S;Gabrielli C et al.[J].Journal of Crystal Growth,2009,311:4334. |
| [5] | 宋利晓,张昭,张鉴清,曹楚南.纳米结构黑镍薄膜的电沉积机理[J].金属学报,2011(01):123-128. |
| [6] | 梁焕巢 .Thesis for Master Degree[D].沈阳:东北大学,2005. |
| [7] | Bakkar A;Neubert V .Electrodeposition onto magnesium in air and water stable ionic liquids: From corrosion to successful plating[J].Electrochemistry communications,2007(9):2428-2435. |
| [8] | 康进兴,赵文轸,徐英鸽,孙立明.工艺参数对电沉积纳米晶镍电流效率的影响[J].稀有金属材料与工程,2008(02):366-369. |
| [9] | Yanna Nuli;Jun Yang;Pu Wang .[J].Applied Surface Science,2006,252:8086. |
| [10] | Qu NS.;Zhu D.;Chan KC.;Lei WN. .Pulse electrodeposition of nanocrystalline nickel using ultra narrow pulse width and high peak current density[J].Surface & Coatings Technology,2003(2/3):123-128. |
| [11] | 杨建明,朱荻,雷卫宁.电沉积法制备纳米晶材料的研究进展[J].材料保护,2003(04):1-4. |
| [12] | 杨房祖;姚士冰;周绍民 .[J].厦门大学学报,2001,40(02):418. |
| [13] | Rosalind J Gummow;He Yinghe .[J].Journal of the Electrochemical Society,2010,157(04):E45. |
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