热壁CVD制备铂薄膜的沉积室内壁材料选择研究

稀有金属材料与工程, 2016, 45(2): 445-448.

热壁CVD制备铂薄膜的沉积室内壁材料选择研究

李颖 ^1, , 胡劲 ^2, , 武晋文 ^3, , 王玉天 ^4, , 于晓东 ^5, , 谭成文 ^6,

1.昆明理工大学,云南昆明650093;北京理工大学,北京100081

2.昆明理工大学,云南昆明,650093

3.北京理工大学,北京,100081

4.昆明理工大学,云南昆明,650093

5.北京理工大学,北京,100081

6.北京理工大学,北京,100081

关键词： Pt薄膜 , 热壁CVD , 沉积室内壁材料

Selection of Deposition Chamber Materials during the Hot Wall CVD Preparation of Platinum Films

Keywords： platinum films , hot wall chemical vapor deposition , deposition chamber materials

选择合适的沉积室内壁材料是热壁化学气相沉积制备Pt薄膜过程中降低前驱体在沉积室内壁上大量消耗,进而保证沉积室内Pt前驱体分压的关键.本研究对比了Pt在镍基高温合金,备选沉积室内壁材料——有氧化层的Cu以及紫铜表面的沉积的难易程度,发现在有氧化层的Cu的表面Pt薄膜很难沉积,因此当镍基高温合金为沉积基体时有氧化层的Cu可以作为热壁CVD的沉积室内壁衬底材料,但是只能一次性使用.

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